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1. (WO2014017397) COMPOSITION DE POLYORGANOSILOXANE DURCISSABLE À LA TEMPÉRATURE AMBIANTE ET APPAREIL ÉLECTRIQUE/ÉLECTRONIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/017397    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/069644
Date de publication : 30.01.2014 Date de dépôt international : 19.07.2013
CIB :
C08L 83/04 (2006.01), C08K 5/5415 (2006.01), C08K 5/56 (2006.01), C09D 7/12 (2006.01), C09D 183/04 (2006.01)
Déposants : MOMENTIVE PERFORMANCE MATERIALS JAPAN LLC [JP/JP]; 5-2-20, Akasaka, Minato-ku, Tokyo 1076112 (JP)
Inventeurs : IIDA Isao; (JP).
MORITA Yasuhito; (JP)
Mandataire : SAKURA PATENT OFFICE, P.C.; PMO Kanda Tsukasa-machi, 8-1, Kanda Tsukasa-machi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010048 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-167255 27.07.2012 JP
Titre (EN) ROOM-TEMPERATURE-CURABLE POLYORGANOSILOXANE COMPOSITION AND ELECTRIC/ELECTRONIC APPARATUS
(FR) COMPOSITION DE POLYORGANOSILOXANE DURCISSABLE À LA TEMPÉRATURE AMBIANTE ET APPAREIL ÉLECTRIQUE/ÉLECTRONIQUE
(JA) 室温硬化性ポリオルガノシロキサン組成物および電気・電子機器
Abrégé : front page image
(EN)This room-temperature-curable polyorganosiloxane composition contains, for every 100 parts by mass of a polyorganosiloxane (A) comprising (A1) 10-80 parts by mass of an alkoxysilyl group end-blocked polyorganosiloxane and (A2) 90-20 parts by mass of a partial hydrolysis condensate (having 10-200 Si atoms) of a silane compound represented by the general formula R4bSi(OR5)4-b, (B) 0.1-15 parts by mass of a silane compound or partial hydrolysis condensate thereof (having at least 1 and less than 10 Si atoms) as a cross-linking agent, and (C) 0.1-15 parts by mass of an organic titanium compound as a curing catalyst. The present invention forms a cured coating film having low viscosity, favorable coating properties without a solvent, and superior scratch resistance.
(FR)L'invention concerne une composition de polyorganosiloxane durcissable à la température ambiante qui contient, pour chaque 100 parties en masse d'un polyorganosiloxane (A) comprenant (A1) 10-80 parties en masse d'un polyorganosiloxane à extrémité bloquée par un groupe alcoxysilyle et (A2) 90-20 parties en masse d'un condensat d'hydrolyse partielle (ayant 10-200 atomes de Si) d'un composé silane représenté par la formule générale R4bSi(OR5)4-b, (B) 0,1-15 parties en masse d'un composé silane ou d'un condensat d'hydrolyse partielle de celui-ci (ayant au moins 1 et moins de 10 atomes de Si) comme agent de réticulation et (C) 0,1-15 parties en masse d'un composé de titane organique comme catalyseur de durcissement. La présente invention forme un film de revêtement durci ayant une faible viscosité, des propriétés de revêtement favorables sans un solvant et une résistance aux rayures supérieure.
(JA) この室温硬化性ポリオルガノシロキサン組成物は、(A1)両末端アルコキシシリル基封鎖ポリオリガノシロキサン10~80質量部と、(A2)一般式:RSi(OR4-bで表されるシラン化合物の部分加水分解縮合物(Si数10~200)90~20質量部からなるポリオルガノシロキサン(A)100質量部に対して、架橋剤である(B)シラン化合物またはその部分加水分解縮合物(Si数1以上10未満)0.1~15質量部、および(C)硬化触媒として有機チタン化合物0.1~15質量部を含有する。低粘度、無溶剤で塗布性が良く、かつ耐スクラッチ性に優れた硬化被膜を形成する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)