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1. (WO2014017291) PROCÉDÉ CONÇU POUR CONFÉRER UNE CONDUCTIVITÉ ÉLECTRIQUE À UNE RÉSINE SILICONE ET RÉSINE SILICONE À REVÊTEMENT MÉTALLIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/017291    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/068747
Date de publication : 30.01.2014 Date de dépôt international : 09.07.2013
CIB :
C23C 18/20 (2006.01), C23C 18/30 (2006.01), C23C 18/36 (2006.01)
Déposants : KANTO GAKUIN SCHOOL CORPORATION [JP/JP]; 1-50-1, Mutsuurahigashi, Kanazawa-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2368501 (JP)
Inventeurs : NISHIWAKI Taiji; (JP).
UMEDA Yasushi; (JP).
TASHIRO Katsuhiko; (JP).
YOSHINO Masahiro; (JP).
HONMA Hideo; (JP)
Mandataire : ITOH Susumu; Musashi Bldg., 4-4, Nishishinjuku 7-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600023 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-165903 26.07.2012 JP
Titre (EN) METHOD FOR IMPARTING ELECTRICAL CONDUCTIVITY TO SILICONE RESIN, AND SILICONE RESIN PROVIDED WITH METALLIC COATING FILM
(FR) PROCÉDÉ CONÇU POUR CONFÉRER UNE CONDUCTIVITÉ ÉLECTRIQUE À UNE RÉSINE SILICONE ET RÉSINE SILICONE À REVÊTEMENT MÉTALLIQUE
(JA) シリコーン樹脂の導電化方法及び金属皮膜付シリコーン樹脂
Abrégé : front page image
(EN)A method for imparting electrical conductivity to a silicone resin, said method comprising: a substrate-constructing step for polymerizing an unsaturated bond-containing organopolysiloxane to construct a substrate formed of a silicone resin; a UV treatment step for irradiating the substrate with ultraviolet light, or an ozone step for contacting the substrate with ozone water; a catalyst step for adding an electroless plating catalyst to the substrate; and an electrical conductivity-imparting step for forming an electroless plating film.
(FR)Cette invention concerne un procédé conçu pour conférer une conductivité électrique à une résine silicone, ledit procédé comprenant : une étape de construction de substrat consistant à polymériser un organopolysiloxane contenant des liaisons insaturées pour construire un substrat fait d'une résine silicone ; une étape de traitement UV consistant à irradier le substrat d'un rayonnement ultraviolet, ou une étape de traitement à l'ozone consistant à mettre le substrat en contact avec de l'eau ozonisée ; une étape d'ajout d'un catalyseur de dépôt autocatalytique sur le substrat ; et une étape destinée à conférer une conductivité électrique afin de former un film de dépôt autocatalytique.
(JA)本発明のシリコーン樹脂の導電化方法は、不飽和結合含有オルガノポリシロキサンを重合し、シリコーン樹脂からなる基体を作製する基体作製工程と、前記基体に紫外線を照射するUV処理工程、及び前記基体とオゾン水とを接触させるオゾン工程の少なくともいずれかの工程と、無電解めっき反応の触媒を基体に付与する触媒工程と、無電解めっき膜を成膜する導電化工程と、を具備する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)