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1. (WO2014017131) DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/017131    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/061226
Date de publication : 30.01.2014 Date de dépôt international : 15.04.2013
CIB :
C23C 14/24 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-1 Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325 (JP)
Inventeurs : KAMADA Toyohiro; (JP).
YAGI Yasushi; (JP).
KAWAKAMI Satoru; (JP)
Mandataire : HASEGAWA Yoshiki; SOEI PATENT AND LAW FIRM, Marunouchi MY PLAZA (Meiji Yasuda Life Bldg.) 9th fl., 1-1, Marunouchi 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1000005 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-162838 23.07.2012 JP
Titre (EN) FILM FORMATION DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM
(JA) 成膜装置
Abrégé : front page image
(EN)A film formation device is provided with a treatment container, multiple vapor deposition heads, a transportation unit, and a first exhaust mechanism. The treatment container defines a treatment chamber. The vapor deposition heads are arranged within the treatment chamber and spray gas containing the vapor of a vapor deposition material. The transportation unit transports a substrate on a transportation path along the arrangement direction of the vapor deposition heads such that the film formation surface of the substrate faces the vapor deposition heads. The first exhaust mechanism is connected to the treatment chamber via a first exhaust port. The transportation path includes a treatment zone in which the film formation surface faces the vapor deposition heads. The first exhaust port is disposed on the inner wall of the treatment chamber at a position that overlaps with the treatment zone when viewed from the film formation surface in the direction in which the vapor deposition heads are arranged.
(FR)La présente invention concerne un dispositif de formation de film comprenant un récipient de traitement, de multiples têtes de dépôt en phase vapeur, une unité de transport et un premier mécanisme d'échappement. Le récipient de traitement définit une chambre de traitement. Les têtes de dépôt en phase vapeur sont agencées à l'intérieur de la chambre de traitement et pulvérisent un gaz contenant la vapeur d'une substance de dépôt en phase vapeur. L'unité de transport transporte un substrat sur un chemin de transport le long de la direction d'agencement des têtes de dépôt en phase vapeur de sorte que la surface de formation de film du substrat soit en regard des têtes de dépôt en phase vapeur. Le premier mécanisme d'échappement est relié à la chambre de traitement par l'intermédiaire d'un premier orifice d'échappement. Le chemin de transport comprend une zone de traitement dans laquelle la surface de formation de film est en regard des têtes de dépôt en phase vapeur. Le premier orifice d'échappement est situé sur la paroi intérieure de la chambre de traitement au niveau d'une position qui chevauche la zone de traitement vue de la surface de formation de film dans la direction de disposition des têtes de dépôt en phase vapeur.
(JA) 成膜装置は、処理容器、複数の蒸着ヘッド、搬送部、第1排気機構を備えている。処理容器は、処理室を画成する。複数の蒸着ヘッドは、処理室内に並べて配置され、蒸着材料の蒸気を含むガスを噴射する。搬送部は、複数の蒸着ヘッドの並設方向に沿った搬送経路で、基板の成膜面を複数の蒸着ヘッドと対向させて基板を搬送する。第1排気機構は、処理室に第1排気口を介して接続される。ここで、搬送経路は、成膜面が複数の蒸着ヘッドと対向する処理区間を含み、第1排気口は、成膜面から蒸着ヘッドの配置位置方向にみて処理区間と重なる位置となる処理室の内壁に設けられている。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)