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1. (WO2014015636) SUBSTRAT EN RÉSEAU, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/015636    N° de la demande internationale :    PCT/CN2012/087235
Date de publication : 30.01.2014 Date de dépôt international : 23.12.2012
CIB :
G02F 1/1362 (2006.01), H01L 23/544 (2006.01)
Déposants : BEIJING BOE OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; No.8 Xihuanzhonglu, BDA Beijing 100176 (CN)
Inventeurs : WU, Hao; (CN).
CHEN, Yajuan; (CN).
YIN, Yanyan; (CN).
WANG, Lei; (CN)
Mandataire : LIU, SHEN & ASSOCIATES; 10th Floor, Building 1, 10 Caihefang Road, Haidian District Beijing 100080 (CN)
Données relatives à la priorité :
201210265530.X 27.07.2012 CN
Titre (EN) ARRAY SUBSTRATE, METHOD FOR MANUFACTURING SAME, AND DISPLAY DEVICE
(FR) SUBSTRAT EN RÉSEAU, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(ZH) 阵列基板及其制备方法、显示装置
Abrégé : front page image
(EN)An array substrate, a method for manufacturing same, and a display device. The array substrate comprises multiple pixel units. Each pixel unit comprises a first transparent conducting layer and a second transparent conducting layer (2), the first transparent conducting layer is formed with a pixel electrode (1), the second transparent conducting layer is formed with a common electrode (201), the second transparent conducting layer (2) is located on the surface of the pixel units, and an insulated protection layer (131) is arranged between the first transparent conducting layer and the second transparent conducting layer (2). The pixel electrode (1) of each pixel unit extends out of a test portion (102), the second transparent conducting layer (2) is further formed with a test block (202) corresponding to the test portion (102), the test block (202) is laterally insulated from the common electrode (201), a part, of the insulated protection layer (131), located between the test block (202) and the test portion (102) is provided with at least one via hole (3), and the test block (202) is electrically connected to the test portion (102) through the via hole (3). The array substrate can test the pixel electrode (1) of each pixel unit separately and improve the test precision.
(FR)La présente invention concerne un substrat en réseau, son procédé de fabrication et un dispositif d'affichage. Le substrat en réseau comporte de multiples unités de pixel. Chaque unité de pixel comporte une première couche conductrice transparente et une seconde couche conductrice transparente (2), la première couche conductrice transparente est formée d'une électrode de pixel (1), la seconde couche conductrice transparente est formée d'une électrode commune (201), la seconde couche conductrice transparente (2) est située sur la surface des unités de pixel et une couche de protection isolée (131) est agencée entre la première couche conductrice transparente et la seconde couche conductrice transparente (2). L'électrode de pixel (1) de chaque unité de pixel s'étend en dehors d'une partie d'essai (102), la seconde couche conductrice transparente (2) est en outre formée d'un bloc d'essai (202) correspondant à la partie d'essai (102), le bloc d'essai (202) est latéralement isolé de l'électrode commune (201), une partie de la couche de protection isolée (131), située entre le bloc d'essai (202) et la partie d'essai (102), est pourvu d'au moins un trou de liaison (3) et le bloc d'essai (202) est électriquement relié à la partie d'essai (102) à travers le trou de liaison (3). Le substrat en réseau peut essayer l'électrode de pixel (1) de chaque unité de pixel séparément et améliorer la précision d'essai.
(ZH)一种阵列基板及其制备方法、显示装置。该阵列基板包括多个像素单元,每个像素单元包括第一透明导电层和第二透明导电层(2),第一透明导电层形成像素电极(1),第二透明导电层(2)形成公共电极(201),且第二透明导电层(2)位于像素单元表面,第一透明导电层与第二透明导电层(2)之间设有绝缘防护层(131);其中,每一个像素单元的像素电极(1)延伸出测试部(102),第二透明导电层(2)还形成有与测试部(102)对应的测试块(202),测试块(202)与公共电极(201)横向隔离,绝缘防护层(131)位于测试块(202)与测试部(102)之间的部分设有至少一个过孔(3),测试块(202)与测试部(102)通过过孔(3)电连接。该阵列基板能够对每一个像素单元的像素电极(1)进行单独测试并提高测试的精确性。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)