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1. (WO2014014843) ANALYSE DE CARACTÉRISTIQUES DE MOTIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/014843    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/050560
Date de publication : 23.01.2014 Date de dépôt international : 15.07.2013
CIB :
B29C 59/02 (2006.01), B29C 33/42 (2006.01)
Déposants : SEAGATE TECHNOLOGY LLC [US/US]; 10200 South De Anza Boulevard Cupertino, California 95014 (US)
Inventeurs : YU, Zhaoning; (US).
KURATAKA, Nobuo; (US).
GAUZNER, Gennady; (US)
Mandataire : GALLENSON, Mavis, S.; 5670 Wilshire Boulevard, Suite 2100 Los Angeles, California 90036 (US)
Données relatives à la priorité :
61/672,271 16.07.2012 US
13/798,130 13.03.2013 US
Titre (EN) ANALYSIS OF PATTERN FEATURES
(FR) ANALYSE DE CARACTÉRISTIQUES DE MOTIF
Abrégé : front page image
(EN)The embodiments disclose a method for an electron curing reverse-tone process, including depositing an etch-resistant layer onto a patterned imprinted resist layer fabricated onto a hard mask layer deposited onto a substrate, curing the etch-resistant layer using an electron beam dose during etching processes of imprinted pattern features into the hard mask and into the substrate and using analytical processes to quantify reduced pattern feature placement drift errors and to quantify increased pattern feature size uniformity of imprinted pattern features etched.
(FR)Conformément à des modes de réalisation, l'invention concerne un procédé pour un processus en ton inversé de durcissement par électrons, ledit procédé consistant à déposer une couche résistante à la gravure sur une couche de réserve à motif imprimé, fabriquée sur une couche de masque dur déposée sur un substrat, à faire durcir la couche résistante à la gravure à l'aide d'une dose de faisceau d'électrons durant des processus de gravure de caractéristiques de motif imprimé dans le masque dur et dans le substrat et à utiliser des processus analytiques pour quantifier des erreurs réduites de dérive de positionnement de caractéristique de motif et l'uniformité accrue de la taille de caractéristique de motif des caractéristiques de motif imprimé gravées.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)