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1. (WO2014014566) SOURCE DE PLASMA À COUPLAGE INDUCTIF SYMÉTRIQUE ET À CHAMBRE D'ÉCOULEMENT SYMÉTRIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/014566    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/044215
Date de publication : 23.01.2014 Date de dépôt international : 05.06.2013
CIB :
H05H 1/46 (2006.01), H01L 21/205 (2006.01), C23C 16/50 (2006.01)
Déposants : APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, CA 95054 (US)
Inventeurs : NGUYEN, Andrew; (US).
COLLINS, Kenneth, S.; (US).
RAMASWAMY, Kartik; (US).
RAUF, Shahid; (US).
CARDUCCI, James, D.; (US).
BUCHBERGER, Douglas, A.; (US).
AGARWAL, Ankur; (US).
KENNEY, Jason, A.; (US).
DORF, Leonid; (US).
BALAKRISHNA, Ajit; (US).
FOVELL, Richard; (US)
Mandataire : WALLACE, Robert, M.; Law Office Of Robert M. Wallace 2112 Eastman Avenue, Suite 102 Ventura, CA 93003 (US)
Données relatives à la priorité :
13/666,280 01.11.2012 US
13/666,245 01.11.2012 US
61/673,937 20.07.2012 US
13/666,224 01.11.2012 US
Titre (EN) SYMMETRICAL INDUCTIVELY COUPLED PLASMA SOURCE WITH SYMMETRICAL FLOW CHAMBER
(FR) SOURCE DE PLASMA À COUPLAGE INDUCTIF SYMÉTRIQUE ET À CHAMBRE D'ÉCOULEMENT SYMÉTRIQUE
Abrégé : front page image
(EN)A plasma reactor has an overhead multiple coil inductive plasma source with symmetric RF feeds and a symmetrical chamber exhaust with plural struts through the exhaust region providing access to a confined workpiece support. A grid may be included for masking spatial effects of the struts from the processing region.
(FR)L'invention concerne un réacteur à plasma présentant une source de plasma inductive à plusieurs bobines suspendue munie d'alimentations RF symétriques et d'une évacuation à chambre symétrique comprenant plusieurs entretoises traversant la zone d'évacuation et donnant accès à un support de pièce confiné. Une grille peut être installée pour masquer les effets spatiaux des entretoises provenant de la zone de traitement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)