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1. (WO2014013871) STRUCTURE CONTENANT UNE COUCHE D'ÉTANCHÉITÉ, PROCÉDÉ DE PRODUCTION CORRESPONDANT, ET CONNECTEUR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/013871    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/068229
Date de publication : 23.01.2014 Date de dépôt international : 03.07.2013
CIB :
B32B 27/36 (2006.01), B29C 45/14 (2006.01), B29C 47/02 (2006.01), B29C 65/42 (2006.01), B29C 65/70 (2006.01), C09K 3/10 (2006.01)
Déposants : TOYOBO CO., LTD. [JP/JP]; 2-8, Dojima Hama 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5308230 (JP)
Inventeurs : FUNAOKA, Daiki; (JP).
SHIGA, Kenji; (JP)
Mandataire : UEKI, Kyuichi; Fujita-Toyobo Building 9th floor, 1-16, Dojima 2-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300003 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-160046 18.07.2012 JP
2012-160047 18.07.2012 JP
Titre (EN) SEALING LAYER-CONTAINING STRUCTURE, METHOD FOR PRODUCING SAME, AND CONNECTOR
(FR) STRUCTURE CONTENANT UNE COUCHE D'ÉTANCHÉITÉ, PROCÉDÉ DE PRODUCTION CORRESPONDANT, ET CONNECTEUR
(JA) シール層含有構造体、その製造方法およびコネクタ
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a sealing layer-containing structure which can be industrially produced at high speed and has excellent sealing properties. This sealing layer-containing structure is characterized in that a sealing layer, which is formed of a hot melt sealing material, is provided on a portion where sealing properties are necessary to be imparted and the ratio of the volume X (mL) of the sealing material that constitutes the sealing layer relative to the contact area Y (mm2) between the sealing layer and the structure, namely X/Y is 1.0 × 10-4 mL/mm2 or more.
(FR)L'invention concerne une structure, qui contient une couche d'étanchéité, et qui, d'une part peut être produite industriellement à grande vitesse, et d'autre part présente d'excellentes propriétés d'étanchéité. Cette structure contenant une couche d'étanchéité est caractérisée, non seulement en ce qu'une couche d'étanchéité faite d'une matière d'étanchéité thermofusible est appliquée sur une partie à laquelle il est nécessaire de conférer des propriétés d'étanchéité, mais aussi en ce que le volume X, exprimé en ml, de matière d'étanchéité constituant la couche d'étanchéité, rapporté à la superficie de contact Y, exprimée en mm2, entre la couche d'étanchéité et la structure est d'au moins 1,0 × 10-4 ml/mm2.
(JA) 工業的に高速生産が可能で優れたシール性を有するシール層含有構造体を提供する。シール性を付与することが必要な部位にホットメルト型シール材からなるシール層が設けられており、シール層を構成するシール材の容積X(mL)と、シール層と構造体との接触面積Y(mm2)との比率X/Yが1.0×10-4mL/mm2以上であることを特徴とするシール層含有構造体である。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)