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1. (WO2014013789) DISPOSITIF DE DÉPÔT ET PROCÉDÉ DE DÉPÔT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/013789    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/064006
Date de publication : 23.01.2014 Date de dépôt international : 21.05.2013
CIB :
C23C 14/32 (2006.01)
Déposants : LABOTEC LIMITED [JP/JP]; 27-13, Kamiogi 2-chome, Suginami-ku, Tokyo 1670043 (JP)
Inventeurs : NAKANO, Hirofumi; (JP)
Mandataire : FUSE, Yukio; 8th Floor, Hirata Building, 8-16, Sarugaku-cho 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010064 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-159347 18.07.2012 JP
2013-081042 09.04.2013 JP
Titre (EN) DEPOSITION DEVICE AND DEPOSITION METHOD
(FR) DISPOSITIF DE DÉPÔT ET PROCÉDÉ DE DÉPÔT
(JA) 堆積装置および堆積方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a deposition device (100) that causes the deposition of material particles (P) and that comprises: an ionizing unit (20) that ionizes the material particles (P) by means of a photoelectric effect at a reaction chamber to which the material particles (P) are supplied; and electrode sections (32, 34) that guide the ionized material particles (P) to a given region using Coulomb force.
(FR)La présente invention se rapporte à un dispositif de dépôt (100) qui provoque le dépôt de particules (P) de matière et qui comprend : une unité d'ionisation (20) qui ionise les particules (P) de matière au moyen d'un effet photoélectrique au niveau d'une chambre de réaction dans laquelle sont fournies les particules (P) de matière ; et des sections d'électrode (32, 34) qui guident les particules (P) de matière ionisées vers une région donnée à l'aide de la force de Coulomb.
(JA) 堆積装置100は、材料粒子Pを堆積させる堆積装置100であって、材料粒子Pが供給される反応室において、光電効果により、材料粒子Pをイオン化するイオン化部20と、イオン化された材料粒子Pをクーロン力によって所与の領域に導く電極部32,34と、を含む。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)