WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2014013368) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE COLONNE D'ANALYSE DE CHROMATOGRAPHIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/013368    N° de la demande internationale :    PCT/IB2013/055413
Date de publication : 23.01.2014 Date de dépôt international : 02.07.2013
CIB :
G01N 30/60 (2006.01), B01J 20/282 (2006.01), G01N 30/56 (2006.01)
Déposants : COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES [FR/FR]; 25, rue Leblanc Bâtiment « Le Ponant D » F-75015 Paris (FR)
Inventeurs : DELLEA, Olivier; (FR).
FUGIER, Pascal; (FR).
MARIE, Hélène; (FR).
VIGNOUD, Séverine; (FR)
Mandataire : NOËL, Chantal; Cabinet Ores 36 rue de Saint Petersbourg F-75008 Paris (FR)
Données relatives à la priorité :
1257001 19.07.2012 FR
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING A CHROMATOGRAPHY ANALYSIS COLUMN
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE COLONNE D'ANALYSE DE CHROMATOGRAPHIE
Abrégé : front page image
(EN)The invention concerns a method for producing a chromatography analysis column, the resulting column, and a device comprising such a column. The method according to the invention comprises the following steps: (a) depositing on the flat surface of a substrate a first layer of particles which are intended to form the stationary phase; (b) depositing on the layer at least one second layer of compactly assembled particles; (c) impregnating the first and second layers with a light radiation-sensitive material, to form at least two compactly assembled particle layers impregnated with sensitive material; (d) insolating these layers in the regions corresponding to the desired internal shape of the chromatography analysis column, if the light radiation-sensitive material behaves like a positive resin, or outlining this internal shape if the light radiation-sensitive material behaves like a negative photosensitive resin; (e) eliminating either the regions insolated in step (d) if the light radiation-sensitive layer behaves like a positive photosensitive resin, or the regions not insolated in step (d) if the light radiation-sensitive material behaves like a negative photosensitive resin; and (f) covering and sealing the structure obtained in step (e) with a cover covered on the face facing the layers with at least one layer of compactly assembled particles which are identical to or different from those deposited on the substrate surface. The invention is used in particular in the field of chemical analysis.
(FR)L'invention concerne un procédé de fabrication d'une colonne d'analyse de chromatographie, la colonne ainsi obtenue et un dispositif comprenant une telle colonne. Le procédé de l'invention comprend les étapes de : a) dépôt d'une première couche de particules, destinées à former la phase stationnaire, sur la surface plane d'un substrat, b) dépôt d'au moins une seconde couche de particules en assemblage compact sur la couche, c) imprégnation des première et seconde couches avec un matériau sensible à un rayonnement lumineux, pour former au moins deux couches de particules en assemblage compact imprégnées de matériau sensible, d) insolation de ces couches dans les zones correspondant à la forme interne voulue de la colonne d'analyse de chromatographie, lorsque le matériau sensible au rayonnement lumineux se comporte comme une résine positive, ou détourant cette forme interne, lorsque le matériau sensible au rayonnement lumineux se comporte comme une résine photosensible négative, e) élimination soit des zones insolées à l'étape d), lorsque le matériau sensible au rayonnement lumineux se comporte comme une résine photosensible positive, soit des zones non insolées à l'étape d), lorsque le matériau sensible au rayonnement lumineux se comporte comme une résine photosensible négative, et d) recouvrement et scellement de la structure obtenue à l'étape e) avec un capot recouvert sur sa face tournée vers les couches d'au moins une couche de particules en assemblage compact identiques ou différentes à celles déposées sur la surface du substrat. L'invention trouve application dans le domaine de l'analyse chimique, en particulier.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)