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1. (WO2014013209) DISPOSITIF DE TRAITEMENT D'UN OBJET PAR PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/013209    N° de la demande internationale :    PCT/FR2013/051768
Date de publication : 23.01.2014 Date de dépôt international : 22.07.2013
CIB :
H01J 37/32 (2006.01)
Déposants : NANOPLAS [FR/FR]; ZAC Rive Gauche 118/122 Avenue de France F-75013 Paris (FR)
Inventeurs : BAUJON, Gilles; (FR).
GUIDOTTI, Emmanuel; (FR).
PILLOUX, Yannick; (FR).
RABINZOHN, Patrick; (FR).
RICHARD, Julien; (FR).
SEGERS, Marc; (FR).
GIRAULT, Vincent; (FR)
Mandataire : LAUDE-DUVAL, Emmanuelle; 122 rue Edouard Vaillant F-92593 Levallois-Perret Cedex (FR)
Données relatives à la priorité :
1257037 20.07.2012 FR
Titre (EN) DEVICE FOR TREATING AN OBJECT WITH PLASMA
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT D'UN OBJET PAR PLASMA
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to a system (1) for treating an object (3) with plasma, comprising a vacuum processing chamber (10) comprising a holder on which the object to be treated is placed, at least two subassemblies (21, 22) each comprising at least one plasma source (210, 220) able to generate a plasma and being supplied with radio-frequency power Pi and with a gas i of independent flow rate ni. According to the invention, the plasma generated by one of the subassemblies (21) is a partially ionized gas or gas mixture of different chemical nature from the plasma generated by the other subassembly or subassemblies (22). The present invention also relates to a process for selectively treating a composite object employing such a device.
(FR)L'invention concerne un système (1) de traitement d'un objet (3) par plasma comprenant une chambre de traitement sous vide (10) comprenant un support sur lequel est disposé l'objet à traiter, au moins deux sous-ensembles (21, 22) comprenant chacun au moins une source de plasma (210,220) apte à générer un plasma et étant alimentée par une puissance de radiofréquence Pi et par un gaz i de débit ni indépendants. Selon l'invention, le plasma généré par l'un des sous- ensembles (21) est un gaz ou mélange gazeux partiellement ionisé de nature chimique différente du plasma généré par l'autre ou les autres sous-ensembles (22). La présente invention concerne également un procédé de traitement sélectif d'un objet composite mettant en œuvre un tel dispositif.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)