WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2014012641) APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION POUR MICROLITHOGRAPHIE COMPRENANT UN SYSTÈME DE MESURE DE DISTANCE OPTIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/012641    N° de la demande internationale :    PCT/EP2013/002074
Date de publication : 23.01.2014 Date de dépôt international : 12.07.2013
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), G01B 9/02 (2006.01)
Déposants : CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen (DE)
Inventeurs : WOLF, Alexander; (DE).
SCHWAB, Markus; (DE).
GRUNER, Toralf; (DE).
HARTJES, Joachim; (DE)
Mandataire : SUMMERER, Christian; Zeuner Summerer Stütz Nussbaumstrasse 8 80336 München (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2012 212 663.5 19.07.2012 DE
Titre (EN) PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR MICROLITHOGRAPHY COMPRISING AN OPTICAL DISTANCE MEASUREMENT SYSTEM
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION POUR MICROLITHOGRAPHIE COMPRENANT UN SYSTÈME DE MESURE DE DISTANCE OPTIQUE
Abrégé : front page image
(EN)A projection exposure apparatus (10) for microlithography comprises a plurality of optical components (M1-M6) forming an exposure beam path, and comprises a distance measurement system (30, 130, 230) for measuring a distance between at least one of the optical components (M1-M6) and a reference element (40, 140, 240). The distance measurement system comprises a frequency comb generator (32, 132, 232), which is configured for generating electromagnetic radiation (36, 236) with a comb-shaped frequency spectrum.
(FR)La présente invention a trait à un appareil d'exposition par projection (10) destiné à la microlithographie, lequel appareil comprend une pluralité d'éléments optiques (M1 à M6) formant un trajet de faisceau d'exposition, et un système de mesure de distance (30, 130, 230) permettant de mesurer une distance entre au moins l'un des éléments optiques (M1 à M6) et un élément de référence (40, 140, 240). Le système de mesure de distance comprend un générateur de peigne de fréquences (32, 132, 232), qui est configuré pour générer un rayonnement électromagnétique (36, 236) avec un spectre de fréquences en forme de peigne.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)