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1. (WO2014011755) MATRICES DE NANOTUBES DE CARBONE ALIGNÉS VERTICALEMENT FORMÉES SUR DES SUBSTRATS MULTICOUCHES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/011755    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/049900
Date de publication : 16.01.2014 Date de dépôt international : 10.07.2013
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    12.05.2014    
CIB :
C01B 31/02 (2006.01)
Déposants : CARBICE NANOTECHNOLOGIES, INC. [US/US]; 397 8th Street, NE Atlanta, GA 30309 (US)
Inventeurs : COLA, Baratunde, A.; (US)
Mandataire : PABST, Patrea, L.; Pabst Patent Group LLP 1545 Peachtree Street, N.E Suite 320 Atlanta, GA 30309 (US)
Données relatives à la priorité :
13/546,827 11.07.2012 US
Titre (EN) VERTICALLY ALIGNED ARRAYS OF CARBON NANOTUBES FORMED ON MULTILAYER SUBSTRATES
(FR) MATRICES DE NANOTUBES DE CARBONE ALIGNÉS VERTICALEMENT FORMÉES SUR DES SUBSTRATS MULTICOUCHES
Abrégé : front page image
(EN)Multilayer substrates for the growth and/or support of CNT arrays are provided. These multilayer substrates both promote the growth of dense vertically aligned CNT arrays and provide excellent adhesion between the CNTs and metal surfaces. Carbon nanotube arrays formed using multilayer substrates, which exhibit high thermal conductivity and excellent durability, are also provided. These arrays can be used as thermal interface materials.
(FR)La présente invention concerne des substrats multicouches pour la croissance et/ou le support de matrices de nanotubes de carbone (CNT). Ces substrats multicouches favorisent la croissance de matrices de CNT alignés verticalement et denses et offrent une excellente adhérence entre les CNT et les surfaces métalliques. L'invention concerne également des matrices de nanotubes de carbone formées à l'aide de substrats multicouches, qui présentent une conductivité thermique élevée et une excellente durabilité. Ces matrices peuvent être utilisées comme matériaux formant interface thermique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)