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1. (WO2014011222) COUCHES MINCES AVEC MICRO-TOPOLOGIES PRÉPARÉES PAR PLISSEMENT SÉQUENTIEL
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/011222    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/030447
Date de publication : 16.01.2014 Date de dépôt international : 12.03.2013
CIB :
B05D 5/00 (2006.01)
Déposants : MASSACHUSETTS INSTITUTE OF TECHNOLOGY [US/US]; 77 Massachusetts Avenue Cambridge, MA 02139 (US)
Inventeurs : BOYCE, Mary C.; (US).
GLEASON, Karen K.; (US).
YAGUE, Jose L,; (US).
RAAYAI, Ardakani, Shabnam; (US).
YIN, Jie; (US)
Mandataire : GORDON, Dana M.; Foley Hoag LLP 155 Seaport Blvd. Boston, MA 02210-2600 (US)
Données relatives à la priorité :
61/671,327 13.07.2012 US
Titre (EN) THIN FILMS WITH MICRO-TOPOLOGIES PREPARED BY SEQUENTIAL WRINKLING
(FR) COUCHES MINCES AVEC MICRO-TOPOLOGIES PRÉPARÉES PAR PLISSEMENT SÉQUENTIEL
Abrégé : front page image
(EN)One aspect of the invention relates to a method of forming a micro- or nano-pattern on the surface of a composite material. The pattern may be a herringbone pattern with a jog angle of greater than or less than 90°or a graded wrinkled pattern. The micro- or nano- patterns on composite materials produced by the methods may be used to modulate, confer or control thin film material properties; as the basis for thickness measurements; to enhance light extraction in OLED; to enhance light harvest in opto-electronic devices; to tune adhesion properties, wetting, and friction of surfaces; to reduce fluid flow drag; and for anti-fouling purposes.
(FR)Selon un aspect, l'invention concerne un procédé de formation de micro-motif ou de nano-motif sur la surface d'un matériau composite. Le motif peut être un motif à chevrons avec un angle en zigzag supérieur ou inférieur à 90°ou un motif plissé étagé. Les micro-motifs ou les nano-motifs formés sur des matériaux composites produits au moyen du procédé peuvent être utilisés pour moduler, conférer ou contrôler des propriétés de matériau de couche mince en tant que base des mesures d'épaisseur pour améliorer l'extraction de lumière dans une DEL organique et pour améliorer la collecte de lumière dans des dispositifs optoélectroniques, pour adapter des propriétés d'adhérence, d'humidification et de frottement de surfaces, pour réduire la résistance à un écoulement fluidique et pour utilisation à des fins anti-encrassement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)