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1. (WO2014011170) SYSTÈME ET PROCÉDÉ POUR AMÉLIORER UNE PRÉCISION DE MESURES D'OUTIL GALVANIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/011170    N° de la demande internationale :    PCT/US2012/046346
Date de publication : 16.01.2014 Date de dépôt international : 12.07.2012
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    12.05.2014    
CIB :
E21B 47/10 (2012.01), G01V 3/22 (2006.01)
Déposants : HALLIBURTON ENERGY SERVICES, INC. [US/US]; 10200 Bellaire Boulevard Houston, TX 77072 (US) (Tous Sauf US).
LI, Shanjun [CN/US]; (US) (US Seulement).
SAN MARTIN, Luis, E. [US/US]; (US) (US Seulement).
DONDERICI, Burkay [TR/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : LI, Shanjun; (US).
SAN MARTIN, Luis, E.; (US).
DONDERICI, Burkay; (US)
Mandataire : PICKETT, Scott; Baker Botts Llp 910 Louisiana Street Houston, TX 77002 (US)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) SYSTEM AND METHOD TO IMPROVE ACCURACY OF GALVANIC TOOL MEASUREMENTS
(FR) SYSTÈME ET PROCÉDÉ POUR AMÉLIORER UNE PRÉCISION DE MESURES D'OUTIL GALVANIQUE
Abrégé : front page image
(EN)A system and method for improving the accuracy of galvanic tool measurements is described. The system (300) may include a survey electrode (A0) and a first monitor electrode ( Μ1') positioned above the survey electrode. A second monitor electrode (M1) may be positioned below the survey electrode, and a first conductive wire (307) may couple the first monitor electrode to the second monitor electrode. A first measurement point (302) may be located on the conductive wire, and a first resistive element (Rm1) may be coupled to the conductive wire.
(FR)La présente invention porte sur un système et un procédé pour améliorer la précision de mesures d'outil galvanique. Le système (300) peut comprendre une électrode de sondage (A0) et une première électrode de surveillance (Μ1') positionnée au-dessus de l'électrode de sondage. Une seconde électrode de surveillance (M1) peut être positionnée au-dessous de l'électrode de sondage, et un premier fil conducteur (307) peut coupler la première électrode de surveillance à la seconde électrode de surveillance. Un premier point de mesure (302) peut être localisé sur le fil conducteur, et un premier élément résistif (Rm1) peut être couplé au fil conducteur.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)