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1. (WO2014010961) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FILM EN NANOTUBE DE CARBONE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/010961    N° de la demande internationale :    PCT/KR2013/006192
Date de publication : 16.01.2014 Date de dépôt international : 11.07.2013
CIB :
H01B 13/00 (2006.01), H01B 5/14 (2006.01), G06F 3/041 (2006.01), H01L 33/36 (2010.01)
Déposants : TOPNANOSYS, INC. [KR/KR]; 45, Nonggongdanji-gil, Goa-eup Gumi-si Gyeongsangbuk-do 730-816 (KR)
Inventeurs : JEONG, Dajeong; (KR).
KIM, Seungryeol; (KR).
BANG, Yunyoung; (KR).
CHUN, Kiyoung; (KR)
Mandataire : CHUN, Sunghoon; Yangjae-dong, Samho Mulsan Bldg., B-1907, 83, Nonhyeon-ro Seocho-gu Seoul 137-941 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2012-0075785 11.07.2012 KR
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING CARBON NANOTUBE FILM
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE FILM EN NANOTUBE DE CARBONE
(KO) 탄소나노튜브필름 제조 방법
Abrégé : front page image
(EN)The aim of the present invention is to provide a method for manufacturing a carbon nanotube film, which enables a large and fine carbon nanotube pattern to be manufactured in a simple and quick manner. Therefore, the method for manufacturing a carbon nanotube film according to the present invention comprises a step of forming a wet-etchable base binder layer on a base. The method comprises a step of forming a CNT coating layer including carbon nanotubes and wet-etchable nanoparticles on the upper surface of the base binder layer. The method comprises a step of forming a wet-etchable top binder layer on the upper surface of the CNT coating layer. The method comprises a step of removing the etching target area of the CNT coating layer, the top binder layer, and the base binder layer by wet-etching.
(FR)L'objectif de la présente invention est de fournir un procédé de fabrication d'un film en nanotube de carbone, qui permet à un motif en nanotube de carbone large et fin d'être fabriqué de manière simple et rapide. A cet effet, le procédé de fabrication d'un film en nanotube de carbone selon la présente invention comprend une étape de formation d'une couche de liant de base pouvant être gravée par gravure humide sur une base. Le procédé comprend une étape de formation d'une couche de revêtement en nanotube de carbone (CNT) comprenant des nanotubes de carbone et des nanoparticules pouvant être gravées par gravure humide sur la surface supérieure de la couche de liant de base. Le procédé comprend une étape de formation d'une couche de liant supérieure pouvant être gravée par gravure humide sur la surface supérieure de la couche de revêtement CNT. Le procédé comprend une étape de retrait de la zone cible de gravure de la couche de revêtement CNT, de la couche de liant supérieure, et de la couche de liant de base par gravure humide.
(KO)본 발명은, 대면적 및 미세한 탄소나노튜브 패턴을 간단하고 신속하게 제조할 수 있는 탄소나노튜브 필름 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다. 따라서, 본 발명의 탄소나노튜브 필름 제조 방법은, 기재 상에, 습식 에칭 가능한 베이스 바인더층을 형성시키는 단계를 포함한다. 상기 베이스 바인더층 상면에, 탄소나노튜브 및 습식 에칭 가능한 나노 입자를 포함하는 CNT 코팅층을 형성시키는 단계를 포함한다. 상기 CNT 코팅층 상면에, 습식 에칭 가능한 탑 바인더층을 형성시키는 단계를 포함한다. 상기 CNT 코팅층과, 탑 바인더층과, 베이스 바인더층의에칭 대상 영역을 습식 에칭을 통하여 제거하는 단계를 포함한다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)