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1. (WO2014010888) PLAQUE D'IMPRESSION POUR IMPRESSION OFFSET INVERSE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/010888    N° de la demande internationale :    PCT/KR2013/006018
Date de publication : 16.01.2014 Date de dépôt international : 05.07.2013
CIB :
H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : LG CHEM, LTD. [KR/KR]; 128, Yeoui-daero, Yeongdeungpo-gu Seoul 150-721 (KR)
Inventeurs : KIM, Jooyeon; (KR).
LEE, Seung Heon; (KR).
KIM, Dae Hyun; (KR).
HWANG, Ji Young; (KR)
Mandataire : CHUNG, Soon-Sung; 6F, Sambo Bldg., 5, Teheran-ro 19-gil, Gangnam-gu, Seoul 135-911 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2012-0075706 11.07.2012 KR
Titre (EN) PRINTING PLATE FOR REVERSE OFFSET PRINTING AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) PLAQUE D'IMPRESSION POUR IMPRESSION OFFSET INVERSE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(KO) 리버스 오프셋 인쇄용 인쇄판 및 그의 제조방법
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a printing plate for reverse offset printing, a method for manufacturing same, and a method for forming a bezel pattern by using the printing plate. The printing plate for the reverse offset printing, according to one embodiment of the present invention, is effective for forming the bezel pattern on a display substrate.
(FR)La présente invention porte sur une plaque d'impression pour l'impression offset inverse, sur son procédé de fabrication, et sur un procédé pour former un motif en biseau par l'utilisation de la plaque d'impression. La plaque d'impression pour l'impression offset inverse, selon un mode de réalisation de la présente invention, est efficace pour former le motif en biseau sur un substrat d'affichage.
(KO)본 출원은 리버스 오프셋 인쇄용 인쇄판 및 그의 제조방법, 상기 인쇄판을 이용하는 베젤 패턴 형성 방법에 관한 발명이다. 본 출원의 일 구현예에 따른 리버스 오프셋 인쇄용 인쇄판은 디스플레이 기판의 베젤 패턴 형성에 효과적이다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)