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1. (WO2014010884) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MODÈLE DE CADRAN SUR UN SUBSTRAT D'AFFICHAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/010884    N° de la demande internationale :    PCT/KR2013/006007
Date de publication : 16.01.2014 Date de dépôt international : 05.07.2013
CIB :
G09F 9/00 (2006.01)
Déposants : LG CHEM, LTD. [KR/KR]; 128, Yeoui-daero, Yeongdeungpo-gu Seoul 150-721 (KR)
Inventeurs : KIM, Jooyeon; (KR).
LEE, Seung Heon; (KR).
SEONG, Jiehyun; (KR)
Mandataire : CHUNG, Soon-Sung; 6F, Sambo Bldg., 5, Teheran-ro 19-gil Gangnam-gu, Seoul 135-911 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2012-0075670 11.07.2012 KR
Titre (EN) METHOD FOR FORMING BEZEL PATTERN ON DISPLAY SUBSTRATE
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MODÈLE DE CADRAN SUR UN SUBSTRAT D'AFFICHAGE
(KO) 디스플레이 기판의 베젤 패턴 형성 방법
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides a method for forming a bezel pattern on a display substrate, comprising the steps of: adhering a separation film comprising a non-patterned portion to a substrate; coating an ink composition on the substrate and printing at least one bezel pattern; and removing the separation film from the substrate.
(FR)La présente invention concerne un procédé pour former un modèle de cadran sur un substrat d'affichage, comprenant : l'adhérence, à un substrat, d'un film de séparation comprenant une partie sans motif; le revêtement d'une composition d'encre sur le substrat et l'impression d'au moins un modèle de cadran ; et le retrait du film de séparation du substrat.
(KO)본 출원은 패턴 미형성부를 포함하는 이형 필름을 기판에 부착하는 단계; 기판에 잉크 조성물을 도포하여 적어도 하나의 베젤 패턴을 인쇄하는 단계; 및 기판에서 이형 필름을 제거하는 단계를 포함하는 디스플레이 기판의 베젤 패턴 형성 방법을 제공한다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)