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1. (WO2014010686) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN SUBSTRAT FONCTIONNEL
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/010686    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/069014
Date de publication : 16.01.2014 Date de dépôt international : 11.07.2013
CIB :
C03B 33/09 (2006.01), B23K 26/14 (2006.01), B23K 26/38 (2006.01), B23K 26/40 (2006.01), B28D 5/00 (2006.01), C03B 27/00 (2006.01)
Déposants : ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 5-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405 (JP)
Inventeurs : SAITO Isao; (JP).
NAGATA Takahiro; (JP).
KATO Yasumasa; (JP).
KOIKE Akio; (JP).
KITAOKA Kenji; (JP).
SASAI Jun; (JP)
Mandataire : HAMADA Yuriko; Eikoh Patent Firm, Toranomon East Bldg. 10F, 7-13, Nishi-Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1050003 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-155564 11.07.2012 JP
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING FUNCTIONAL SUBSTRATE
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN SUBSTRAT FONCTIONNEL
(JA) 機能性基板の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a method for producing a functional substrate and that achieves sufficiently high production characteristics. In a cutting step of the method for producing a functional substrate, an intermediate layer (17) is locally heated to a temperature that is no greater than the annealing point by means of laser light (20), causing a compressive stress or a tensile stress smaller than an internal residual tensile stress (CT) to be locally generated at the intermediate layer (17), and controlling the speed of crack (30) extension resulting from internal residual tensile stress.
(FR)Cette invention concerne un procédé de production d'un substrat fonctionnel offrant des caractéristiques de production suffisamment élevées. Dans une étape de découpe dudit procédé de production d'un substrat fonctionnel, une couche intermédiaire (17) est chauffée localement au moyen d'une lumière laser (20) jusqu'à une température qui reste inférieure au point de recuit, pour qu'une contrainte en compression ou qu'une contrainte en traction plus petite qu'une contrainte en traction résiduelle interne (CT) soit générée localement dans ladite couche intermédiaire (17), avec régulation de la vitesse de propagation de la fissure (30) résultant de ladite contrainte en traction résiduelle interne.
(JA) 本発明は、充分に高い生産性を実現した、機能性基板の製造方法を提供する。本発明の機能性基板の製造方法の切断工程において、レーザ光20によって徐冷点以下の温度で中間層17を局所的に加熱し、内部残留引張応力CTよりも小さい引張応力、又は圧縮応力を中間層17に局所的に発生させ、内部残留引張応力によるクラック30の伸展速度を制御する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)