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1. (WO2014010512) COMPLEXE DE SÉPARATION DE GAZ ACIDE, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION ET MODULE DE SÉPARATION DE GAZ ACIDE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/010512    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/068421
Date de publication : 16.01.2014 Date de dépôt international : 04.07.2013
CIB :
B01D 69/00 (2006.01), B01D 71/02 (2006.01), B01D 71/06 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventeurs : ISHIZUKA, Kenichi; (JP)
Mandataire : NAKAJIMA, Jun; TAIYO, NAKAJIMA & KATO, Seventh Floor, HK-Shinjuku Bldg., 3-17, Shinjuku 4-chome, Shinjuku-ku, Tokyo 1600022 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-155923 11.07.2012 JP
Titre (EN) ACID GAS SEPARATION COMPLEX, METHOD FOR MANUFACTURING SAME, AND ACID GAS SEPARATION MODULE
(FR) COMPLEXE DE SÉPARATION DE GAZ ACIDE, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION ET MODULE DE SÉPARATION DE GAZ ACIDE
(JA) 酸性ガス分離用複合体及びその製造方法並びに酸性ガス分離モジュール
Abrégé : front page image
(EN)The present invention has a step for preparing a coating liquid for forming an acidic gas separation layer, a step for coating a long porous support with the coating liquid for forming an acidic gas separation layer, and a step for drying the coated coating layer to create an acidic gas separation layer. An acid gas separation layer is continuously formed while the porous support is transported in a fixed direction, and an acid gas separation complex having an acid gas separation layer on the porous support is manufactured. The coating liquid contains a water-absorbing polymer, a carbon dioxide carrier selected from alkali metal salts, and at least one material selected from polymer particles having an average size of 0.01-1000 µm and a specific gravity of 0.5-1.3 g/cm3 and a compound selected from the group consisting of compounds having a C3-20 alkyl group or fluoroalkyl group and a hydrophilic group, and compounds having a siloxane structure.
(FR)La présente invention a une étape pour préparer d'un liquide de revêtement pour former une couche de séparation de gaz acide, une étape pour revêtir un long support poreux par le liquide de revêtement pour former une couche de séparation de gaz acide et une étape pour sécher la couche de revêtement appliquée en revêtement pour créer une couche de séparation de gaz acide. Une couche de séparation de gaz acide est formée de façon continue tandis que le support poreux est transporté dans une direction fixée et un complexe de séparation de gaz acide ayant une couche de séparation de gaz acide sur le support poreux est fabriqué. Le liquide de revêtement contient un polymère absorbant l'eau, un support de dioxyde de carbone choisi parmi les sels de métaux alcalins et au moins une matière choisie parmi des particules polymères ayant une dimension moyenne de 0,01-1 000 µm et une masse volumique de 0,5-1,3 g/cm3 et un composé choisi dans le groupe consistant en les composés ayant un groupe alkyle ou groupe fluoroalkyle en C3-20 et un groupe hydrophile, et des composés ayant une structure siloxane.
(JA) 炭素数3~20のアルキル基又はフッ化アルキル基と親水性基とを有する化合物及びシロキサン構造を有する化合物からなる群より選ばれる化合物並びに平均粒子径0.01~1000μmかつ比重0.5~1.3g/cmのポリマー粒子から選ばれる少なくとも一種と、吸水性ポリマーと、アルカリ金属塩から選ばれる二酸化炭素キャリアとを含む酸性ガス分離層形成用塗布液を調製する工程と、長尺状の多孔質支持体上に酸性ガス分離層形成用塗布液を塗布する工程と、塗布により形成された塗布膜を乾燥させて酸性ガス分離層とする工程とを有し、多孔質支持体を一定方向に搬送しながら酸性ガス分離層を連続形成し、多孔質支持体上に酸性ガス分離層を有する酸性ガス分離用複合体を製造する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)