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1. (WO2014010400) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN CORPS STRATIFIÉ ET CORPS STRATIFIÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/010400    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/067284
Date de publication : 16.01.2014 Date de dépôt international : 24.06.2013
CIB :
C23C 14/58 (2006.01), B32B 9/00 (2006.01), B60J 1/00 (2006.01), C01G 23/07 (2006.01), C03C 17/245 (2006.01), C03C 17/36 (2006.01), C23C 14/34 (2006.01)
Déposants : ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 5-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405 (JP)
Inventeurs : KIHARA, Naoto; (JP).
MIYAGI, Takahira; (JP)
Mandataire : SENMYO, Kenji; 4th Floor, SIA Kanda Square, 17, Kanda-konyacho, Chiyoda-ku, Tokyo 1010035 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-153497 09.07.2012 JP
Titre (EN) METHOD FOR MANUFACTURING LAMINATE BODY AND LAMINATE BODY
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN CORPS STRATIFIÉ ET CORPS STRATIFIÉ
(JA) 積層体の製造方法および積層体
Abrégé : front page image
(EN)A method for manufacturing a laminate body having a titanium oxide layer mainly composed of rutile-type titanium oxide is provided, the method for manufacturing a laminate body being capable bringing the temperature during film formation and the heat-processing temperature after film formation to a relatively low temperature. The method for manufacturing a laminate body has a film formation step and a heat-processing step. The film formation step forms a precursor layer by sputtering using a titanium target containing 1 to 5 atomic% of at least one additive element selected from Ni, Fe, and Cu, on a transparent substrate at a temperature of 150°C or less. In the heat-processing step, the transparent substrate on which the precursor has been formed is heat treated at a temperature of 550 to 750°C to obtain a titanium oxide layer mainly composed of rutile-type titanium oxide.
(FR)La présente invention concerne un procédé de fabrication d'un corps stratifié comprenant une couche d'oxyde de titane composée principalement d'oxyde de titane de type rutile, le procédé de fabrication de corps stratifié permettant de baisser à la fois la température pendant la formation du film et la température de traitement thermique après la formation du film à une température relativement faible. Le procédé de fabrication de corps stratifié comprend une étape de formation de film et une étape de traitement thermique. L'étape de formation de film forme une couche précurseur par pulvérisation à l'aide d'une cible en titane contenant de 1 à 5 % atomique d'au moins un élément additif choisi parmi Ni, Fe et Cu, sur un substrat transparent à une température inférieure ou égale à 150 °C. Lors de l'étape de traitement thermique, le substrat transparent, sur lequel a été formé le précurseur, est traité thermiquement à une température située dans la plage allant de 550 à 750 °C afin d'obtenir une couche d'oxyde de titane composée principalement d'oxyde de titane de type rutile.
(JA) ルチル型酸化チタンから主としてなる酸化チタン層を有する積層体の製造方法であって、成膜時の温度および成膜後の熱処理温度を比較的低温にできる積層体の製造方法を提供する。 積層体の製造方法は、成膜工程と熱処理工程とを有する。成膜工程は、150℃以下の温度の透明基体上に、Ni、Fe、およびCuから選ばれる少なくとも1種の添加元素を1~5原子%含むチタンターゲットを使用して、スパッタリング法により前駆体層を成膜する。熱処理工程は、前駆体層が形成された透明基体を550~750℃の温度で熱処理して、ルチル型酸化チタンから主としてなる酸化チタン層を得る。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)