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1. (WO2014010345) L’INVENTION FOURNIT UNE PLAQUE À BUSES EXCELLENTE EN TERMES DE DURABILITÉ FACE À L’ESSUYAGE, ET DE PROPRIÉTÉS POUR REPOUSSER L’ENCRE MÊME EN CAS DE MISE EN œUVRE D’UNE ENCRE ADHÉRANT FACILEMENT À LA PLAQUE À BUSES. PLUS PRÉCISÉMENT, L’INVENTION CONCERNE UN PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM DURCI À BASE DE SILICONE CÔTÉ FACE DE DÉCHARGE D’ENCRE DE PLAQUE À BUSES POUR IMPRIMANTE À JET D’ENCRE, QUI COMPORTE : (1) UNE ÉTAPE DE PRÉPARATION D’UNE COMPOSITION DE SILICONE CONDENSÉE CONTENANT AU MOINS UNE SORTE DE COMPOSÉ CHOISIE PARMI UN GROUPE CONSTITUÉ D’UN COMPOSÉ BISMUTH ET D’UN COMPOSÉ AMIDINE CYCLIQUE; (2) UNE ÉTAPE DE FORMATION DE FILM DE REVÊTEMENT AU COURS DE LAQUELLE CETTE COMPOSITION DE SILICONE CONDENSÉE EST APPLIQUÉE SUR UNE FACE DE DÉCHARGE D’ENCRE DE LA PLAQUE À BUSES; ET (3) UNE ÉTAPE DE DURCISSEMENT À TEMPÉRATURE ÉLEVÉE DE CE FILM DE REVÊTEMENT.
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/010345    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/065701
Date de publication : 16.01.2014 Date de dépôt international : 06.06.2013
CIB :
G03F 7/038 (2006.01), C08F 290/12 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/027 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : TORAY INDUSTRIES, INC. [JP/JP]; 1-1, Nihonbashi-Muromachi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1038666 (JP)
Inventeurs : FUJIWARA, Takenori; (JP).
TANIGAKI, Yugo; (JP).
MASUDA, Ichiro; (JP).
FUKUZAKI, Yusuke; (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-153406 09.07.2012 JP
Titre (EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CONDUCTIVE WIRE PROTECTION FILM, AND TOUCH PANEL MEMBER
(FR) L’INVENTION FOURNIT UNE PLAQUE À BUSES EXCELLENTE EN TERMES DE DURABILITÉ FACE À L’ESSUYAGE, ET DE PROPRIÉTÉS POUR REPOUSSER L’ENCRE MÊME EN CAS DE MISE EN œUVRE D’UNE ENCRE ADHÉRANT FACILEMENT À LA PLAQUE À BUSES. PLUS PRÉCISÉMENT, L’INVENTION CONCERNE UN PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM DURCI À BASE DE SILICONE CÔTÉ FACE DE DÉCHARGE D’ENCRE DE PLAQUE À BUSES POUR IMPRIMANTE À JET D’ENCRE, QUI COMPORTE : (1) UNE ÉTAPE DE PRÉPARATION D’UNE COMPOSITION DE SILICONE CONDENSÉE CONTENANT AU MOINS UNE SORTE DE COMPOSÉ CHOISIE PARMI UN GROUPE CONSTITUÉ D’UN COMPOSÉ BISMUTH ET D’UN COMPOSÉ AMIDINE CYCLIQUE; (2) UNE ÉTAPE DE FORMATION DE FILM DE REVÊTEMENT AU COURS DE LAQUELLE CETTE COMPOSITION DE SILICONE CONDENSÉE EST APPLIQUÉE SUR UNE FACE DE DÉCHARGE D’ENCRE DE LA PLAQUE À BUSES; ET (3) UNE ÉTAPE DE DURCISSEMENT À TEMPÉRATURE ÉLEVÉE DE CE FILM DE REVÊTEMENT.
(JA) 感光性樹脂組成物、導電性配線保護膜及びタッチパネル部材
Abrégé : front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide an alkali developable negative photosensitive resin composition which has extremely excellent storage stability without deteriorating characteristics such as high hardness, high transparency, high heat resistance and high chemical resistance. The present invention provides a photosensitive resin composition which contains: an unsaturated group-containing resin (D) that is obtained by adding an epoxy group-containing unsaturated compound (C) to some acid groups of a copolymer that is obtained by copolymerizing a (meth)acrylic acid ester (A) and a compound (B) containing an unsaturated group and an acid; a (meth)acrylic compound (E) having a specific structure; a silane compound (G) having a substituent that is selected from the group consisting of an amino group, an amide group, a ureido group, a ketimine group and an isocyanate group; and a photopolymerization initiator (F).
(FR)L’invention a pour objectif de fournir une composition de résine photosensible négative qui sans perdre de ses caractéristiques élevées de dureté, de transparence, de résistance à la chaleur et de résistance chimique, est excellente en termes de stabilité de conservation et permet un développement alcalin. Plus précisément, cette composition de résine photosensible comprend : une résine comprenant un groupe insaturé (D) dans laquelle un composé insaturé comprenant un groupe époxy (C) est ajouté dans une partie de groupe acide possédant un copolymère dans lequel sont copolymérisés un ester d'acide (méth)acrylique (A) et un composé comprenant un acide ainsi qu’un groupe insaturé (B); un composé (méth)acrylique (E) possédant une structure spécifique; un composé silane (G) possédant un groupe de substitution choisi parmi un groupe amino, un groupe amide, un groupe uréide, une cétimine et un groupe isocyanate; et un initiateur de photopolymérisation (F).
(JA)本発明は、高硬度、高透明、高耐熱及び高耐薬品といった特性を損なうことなく、保存安定性に極めて優れる、アルカリ現像可能なネガ型感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。本発明は、(メタ)アクリル酸エステル(A)と、不飽和基及び酸含有化合物(B)と、を共重合させた共重合体が有する一部の酸基に、エポキシ基含有不飽和化合物(C)を付加させた不飽和基含有樹脂(D)と、特定構造を有する(メタ)アクリル化合物(E)と、アミノ基、アミド基、ウレイド基、ケチミン及びイソシアネート基からなる群から選ばれる置換基を有する、シラン化合物(G)と、光重合開始剤(F)と、を含有する、感光性樹脂組成物を提供する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)