WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2014009386) CHAMBRE DE TRAITEMENT, SYSTÈME ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT D'UN SUBSTRAT REVÊTU
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/009386    N° de la demande internationale :    PCT/EP2013/064516
Date de publication : 16.01.2014 Date de dépôt international : 09.07.2013
CIB :
H01L 21/673 (2006.01)
Déposants : SAINT-GOBAIN GLASS FRANCE [FR/FR]; 18, avenue d'Alsace F-92400 Courbevoie (FR)
Inventeurs : PALM, Jörg; (DE).
FÜRFANGER, Martin; (DE).
JOST, Stefan; (DE)
Mandataire : GEBAUER, Dieter; Splanemann Patentanwälte Rumfordstraße 7 80469 München (DE)
Données relatives à la priorité :
12175596.1 09.07.2012 EP
Titre (DE) PROZESSBOX, ANORDNUNG UND VERFAHREN ZUM PROZESSIEREN EINES BESCHICHTETEN SUBSTRATS
(EN) PROCESS BOX, ASSEMBLY, AND METHOD FOR PROCESSING A COATED SUBSTRATE
(FR) CHAMBRE DE TRAITEMENT, SYSTÈME ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT D'UN SUBSTRAT REVÊTU
Abrégé : front page image
(DE)Die vorliegende Erfindung betrifft eine Prozessbox zum Prozessieren eines beschichteten Substrats, mit den folgenden Merkmalen: ein gasdicht verschließbares Gehäuse, das einen Hohlraum formt; das Gehäuse umfasst wenigstens einen Gehäuseabschnitt, der so ausgebildet ist, dass das Substrat durch auf den Gehäuseabschnitt auftreffende elektromagnetische Heizstrahlung wärmebehandelbar ist; das Gehäuse weist wenigstens einen mit einer Kühleinrichtung zu dessen Kühlung koppelbaren Gehäuseabschnitt und wenigstens einen nicht kühlbaren Gehäuseabschnitt auf; der Hohlraum ist durch wenigstens eine Trennwand in einen Prozessraum zum Aufnehmen des Substrats und einen Zwischenraum unterteilt, wobei die Trennwand über eine oder mehrere Öffnungen verfügt und zwischen dem Substrat und dem temperierbaren Gehäuseabschnitt angeordnet ist; das Gehäuse ist mit wenigstens einer in den Hohlraum mündenden, verschließbaren Gasdurchführung zum Evakuieren und Einleiten von Prozessgas in den Hohlraum versehen. Des Weiteren betrifft sie Anordnungen und ein Verfahren zum Prozessieren eines beschichteten Substrats, bei dem wenigstens ein Gehäuseabschnitt der Prozessbox während und/oder nach der Wärmebehandlung gekühlt und eine Diffusion eines während der Wärmebehandlung erzeugten gasförmigen Stoffs zum temperierten Gehäuseabschnitt durch eine mit einer oder mehreren Öffnungen versehene Trennwand, welche zwischen dem beschichteten Substrat und dem temperierten Gehäuseabschnitt angeordnet ist, gehemmt wird.
(EN)The invention relates to a process box for processing a coated substrate, having the following features: a housing, which can be closed gas-tight and which forms a cavity; the housing comprises at least one housing section that is designed in such a way that the substrate can be heat-treated by means of electromagnetic heating radiation incident on the housing section; the housing has at least one housing section that can be coupled to a cooling device for cooling said housing section and at least one housing section that cannot be cooled; the cavity is divided by at least one separating wall into a process chamber for accommodating the substrate and an intermediate chamber, wherein the separating wall has one or more openings and is arranged between the substrate and the temperature-controllable housing section; the housing is provided with at least one gas feed-through for evacuating the cavity and introducing process gas into the cavity, which gas feed-through opens into the cavity and can be closed. The invention further relates to assemblies and a method for processing a coated substrate, in which method at least one housing section of the process box is cooled during and/or after the heat treatment and diffusion of a gaseous substance produced during the heat treatment to the temperature-controlled housing section is inhibited by a separating wall, which is provided with one or more openings and which is arranged between the coated substrate and the temperature-controlled housing section.
(FR)La présente invention concerne une chambre de traitement d'un substrat revêtu, possédant les caractéristiques suivantes : un boîtier formant une cavité qui peut être fermée de manière étanche aux gaz ; le boîtier comprend au moins un segment de boîtier configuré de telle façon que le substrat peut être soumis à un traitement thermique par un rayonnement chauffant électromagnétique dirigé sur le segment de boîtier ; le boîtier comporte au moins un segment de boîtier qui peut être relié à un système refroidisseur afin d'être refroidi et au moins un segment de boîtier non refroidissable ; la cavité est divisée par au moins une cloison en un espace de traitement, destiné à recevoir le substrat, et en un espace intermédiaire, la cloison étant percée d'un ou plusieurs orifices et disposée entre le substrat et le segment de boîtier tempérable ; le boîtier comporte au moins un conduit de gaz obturable, débouchant dans la cavité et servant à évacuer et introduire un gaz de traitement dans la cavité. L'invention concerne en outre des systèmes ainsi qu'un procédé de traitement d'un substrat revêtu dans lequel au moins un segment de boîtier de la chambre de traitement est refroidi pendant et/ou après le traitement thermique et la diffusion d'une substance gazeuse produite pendant le traitement thermique vers le segment de boîtier tempéré à travers une cloison percée d'un ou plusieurs orifices et disposée entre le substrat revêtu et le segment de boîtier tempéré est empêchée.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)