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1. (WO2014008996) PROCÉDÉ ET INSTALLATION POUR L'ÉPURATION DU GAZ DE SYNTHÈSE, EN PARTICULIER POUR LA SYNTHÈSE DE L'AMMONIAC
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/008996    N° de la demande internationale :    PCT/EP2013/001974
Date de publication : 16.01.2014 Date de dépôt international : 04.07.2013
CIB :
C01B 3/02 (2006.01), C01B 3/56 (2006.01), C10J 3/00 (2006.01)
Déposants : LINDE AKTIENGESELLSCHAFT [DE/DE]; Klosterhofstr. 1 80331 Münchenn (DE)
Inventeurs : KLEIN, Bernd; (DE).
HEINZEL, Albrecht; (DE)
Représentant
commun :
LINDE AG [DE/DE]; Legal Services Intellectual Property Dr.-Carl-von-Linde-Str. 6-14 82049 Pullach (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2012 013 816.4 12.07.2012 DE
Titre (DE) VERFAHREN UND ANLAGE ZUR REINIGUNG VON SYNTHESEGAS, INSBESONDERE FÜR DIE AMMONIAKSYNTHESE
(EN) METHOD AND SYSTEM FOR PURIFYING SYNTHESIS GAS, IN PARTICULAR FOR AMMONIA SYNTHESIS
(FR) PROCÉDÉ ET INSTALLATION POUR L'ÉPURATION DU GAZ DE SYNTHÈSE, EN PARTICULIER POUR LA SYNTHÈSE DE L'AMMONIAC
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Reinigen von Synthesegas, insbesondere für die Ammoniaksynthese, wobei ein Teilstrom (26) eines H2-reichen, CO-haltigen Synthesegasstromes verbrannt wird, insbesondere zur Erzeugung elektrischer Energie, und wobei zumindest eine im verbleibenden H2-reichen, CO-haltigen Synthesegasstrom (26a) enthaltene Komponente, insbesondere in Form von Kohlendioxid, Methanol und/oder Wasser, bei niedrigen Temperaturen von einem Adsorber adsorbiert wird und anschließend jene adsorbierte Komponente vom Adsorber durch Spülen mit Stickstoff (33) bei höheren Temperaturen desorbiert wird. Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass der H2-reiche Teilstrom (26) vor dem Verbrennen mit zum Spülen verwendeten Stickstoff (35) verdünnt wird. Des Weiteren betriff die Erfindung eine Anlage (1 ) zum Reinigen von Synthesegas, insbesondere für die Ammoniaksynthese.
(EN)The invention relates to a method for purifying synthesis gas, in particular for ammonia synthesis, wherein a partial stream (26) of an H2-rich, CO-containing synthesis gas stream is burned, in particular to generate electrical energy, and wherein at least one component contained in the remaining H2-rich, CO-containing synthesis gas stream (26a), in particular in the form of carbon dioxide, methanol and/or water, is absorbed by an adsorber at low temperatures, after which said absorbed component is desorbed from the adsorber by flushing using nitrogen (33) at higher temperatures. According to the invention the H2-rich partial stream (26) is diluted using the nitrogen (35) used for the flushing before being burned. The invention further relates to a system (1) for purifying synthesis gas, in particular for ammonia synthesis.
(FR)L'invention concerne un procédé pour l'épuration du gaz de synthèse, en particulier pour la synthèse de l'ammoniac. Un flux partiel (26) d'un flux de gaz de synthèse riche en hydrogène et contenant du CO est brûlé, en particulier pour la production d'énergie électrique. Au moins un composant contenu dans le flux de gaz de synthèse (26a) restant, riche en H2 et contenant du CO, pouvant être en particulier du dioxyde de carbone, du méthanol et/ou de l'eau, est adsorbé à de basses températures par un adsorbeur, le composant adsorbé étant ensuite désorbé de l'adsorbeur par rinçage à l'azote (33) à des températures plus élevées. Selon l'invention, le flux partiel (26) riche en H2 est dilué par l'azote (35) utilisé au rinçage avant d'être brûlé. En outre, l'invention concerne une installation (1) pour l'épuration du gaz de synthèse, en particulier pour la synthèse de l'ammoniac.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)