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1. (WO2014008984) PROCÉDÉ DE REVÊTEMENT PAR IMPULSION HAUTE PUISSANCE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/008984    N° de la demande internationale :    PCT/EP2013/001853
Date de publication : 16.01.2014 Date de dépôt international : 24.06.2013
CIB :
C23C 14/34 (2006.01), H01J 37/34 (2006.01)
Déposants : OERLIKON TRADING AG, TRÜBBACH [CH/CH]; Hauptstrasse 53 CH-9477 Trübbach (CH)
Inventeurs : KRASSNITZER, Siegfried; (AT).
KURAPOV, Denis; (CH)
Mandataire : KEMPKENS, Anke; Anwaltskanzlei Kempkens Vordere Mühlgasse 187 86899 Landsberg a. Lech (DE)
Données relatives à la priorité :
10 2012 013 577.7 10.07.2012 DE
Titre (DE) HOCHLEISTUNGSIMPULSBESCHICHTUNGSMETHODE
(EN) HIGH-POWER PULSE COATING METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE REVÊTEMENT PAR IMPULSION HAUTE PUISSANCE
Abrégé : front page image
(DE)Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Beschichtung von Substraten mittels Zerstäubung von Targetmaterial wobei folgende Schritte umfasst sind: - In einer Beschichtungskammer Beaufschlagen eines ersten Sputtertargets aus einem ersten Material mit einem Leistungspuls mittels dem während eines ersten Zeitintervalls eine erste Energiemenge auf das Sputtertarget übertragen wird, wobei dabei die maximale Leistungsdichte 50W/cm2 und bevorzugt 500W/cm2 übersteigt - In der Beschichtungskammer Beaufschlagen eines zweiten Sputtertargets aus einem zweiten, vom ersten verschiedenen Material mit einem Leistungspuls mittels dem während eines zweiten Zeitintervalls eine zweite Energiemenge auf das Sputtertarget übertragen wird, wobei dabei die maximale Leistungsdichte 50W/cm2 und bevorzugt 500W/cm2 übersteigt dadurch gekennzeichnet, dass sich die erste Energiemenge von der zweiten Energiemenge unterscheidet.
(EN)The invention relates to a method for coating substrates by sputtering of target material, the method comprising the following steps: - applying a first sputtering target made of a first material in a coating chamber to a power pulse by which, during a first time interval, a first amount of energy is transmitted to the sputtering target, wherein the maximum power density exceeds 50W/cm2 and preferably 500W/cm2; - applying a second sputtering target made of a second material that is different from the first material in the coating chamber to a power pulse by which, during a second time interval, a second amount of energy is transmitted to the sputtering target, wherein the maximum power density exceeds 50W/cm2 and preferably 500W/cm2, characterized in that the first amount of energy differs from the second amount of energy.
(FR)L'invention concerne un procédé de revêtement de substrats par pulvérisation de matériau cible, comportant les étapes consistant, dans une chambre de revêtement, à soumettre une première cible de pulvérisation constituée d'un premier matériau à une impulsion de puissance à l'aide de laquelle une première quantité d'énergie est transmise à la cible de pulvérisation pendant un premier intervalle temporel, la puissance volumique maximale dépassant 50W/cm2, et de préférence 500W/cm2, et dans la chambre de revêtement, à soumettre une seconde cible de pulvérisation constituée d'un second matériau, différent du premier matériau, à une impulsion de puissance à l'aide de laquelle une seconde quantité d'énergie est transmise à la cible de pulvérisation pendant un second intervalle temporel, la puissance volumique maximale dépassant 50W/cm2, et de préférence 500W/cm2. L'invention est caractérisée en ce que la première quantité d'énergie diffère de la seconde quantité d'énergie.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : allemand (DE)
Langue de dépôt : allemand (DE)