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1. (WO2014008660) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE FABRICATION DE PANNEAU À CRISTAUX LIQUIDES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/008660    N° de la demande internationale :    PCT/CN2012/078606
Date de publication : 16.01.2014 Date de dépôt international : 13.07.2012
CIB :
G02F 1/13 (2006.01), G02F 1/1362 (2006.01)
Déposants : SHENZHEN CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; No.9-2, Tangming Rd, Guangming New District Shenzhen, Guangdong 518132 (CN) (Tous Sauf US).
CHENG, Wen-da [CN/CN]; (CN) (US Seulement)
Inventeurs : CHENG, Wen-da; (CN)
Mandataire : CENFO INTELLECTUAL PROPERTY AGENCY; Room 210-212, 2/F, Building "Golden", Design Industrial Park, No.3838, Nanshan Road, Nanshan District (Block 11, Industrial Village of Former Nantou Cheng) Shenzhen, Guangdong 518052 (CN)
Données relatives à la priorité :
201210235057.0 09.07.2012 CN
Titre (EN) FABRICATION METHOD AND DEVICE OF LIQUID CRYSTAL PANEL
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE FABRICATION DE PANNEAU À CRISTAUX LIQUIDES
(ZH) 液晶面板的制作方法及装置
Abrégé : front page image
(EN)A fabrication method and device of a liquid crystal panel, the device comprising: a cleaning mechanism (201) for cleaning an array substrate after the array fabrication process for the array substrate is completed (S1); an array tester (202) for conducting an array test on the cleaned array substrate (S2); and a repairing machine (203) for processing the array substrate according to the array test result (S3). After an array fabrication process of an array substrate is completed and the array substrate is cleaned, array detection and broken-line repairing are conducted, thus the cleaning mechanism (201) can prevent a TFT array substrate, having broken lines caused in the cleaning process, from entering a cell device (204), thus reducing the scrap rate of the liquid crystal panel. In addition, the cleaning mechanism (201) cleans a TFT array substrate to remove microparticles thereon before the array tester (202) conducts testing on the TFT array substrate, thereby preventing microparticles on the TFT array substrate from damaging the array tester (202).
(FR)L'invention porte sur un procédé et un dispositif de fabrication d'un panneau à cristaux liquides, le dispositif comprenant : un mécanisme de nettoyage (201) pour nettoyer un substrat de matrice après que le processus de fabrication de matrice du substrat de matrice ait été achevé (S1); un testeur de matrice (202) pour effectuer un test de matrice sur le substrat de matrice nettoyé (S2); et une machine de réparation (203) pour traiter le substrat de matrice en fonction du résultat de test de matrice (S3). Après qu'un processus de fabrication de matrice d'un substrat de matrice ait été achevé et que le substrat de matrice ait été nettoyé, une détection de matrice et une réparation de ligne rompue sont effectuées, ainsi le mécanisme de nettoyage (201) peut empêcher un substrat de matrice TFT, comprenant des lignes rompues causées dans le processus de nettoyage, d'entrer dans un dispositif cellulaire (204), ce qui réduit le taux de rebut du panneau à cristaux liquides. De plus, le mécanisme de nettoyage (201) nettoie un substrat de matrice TFT pour retirer des microparticules se trouvant dessus avant que le testeur de matrice (202) n'effectue un test sur le substrat de matrice TFT, ce qui permet d'empêcher que des microparticules sur le substrat de matrice TFT n'endommagent le testeur de matrice (202).
(ZH)一种液晶面板的制作装置及制作方法,该装置包括:清洁机构(201),用于在阵列基板完成阵列制程后,对阵列基板进行清洁处理(S1);阵列测试机(202),用于对清洁处理后的阵列基板进行阵列测试(S2);修补机(203),用于根据阵列测试处理结果,对阵列基板进行相应处理(S3)。通过对完成阵列制程后的阵列基板进行清洁处理之后,再进行阵列检测与断线修补,可避免清洁机构(201)在清洁处理中造成断线的TFT阵列基板进入成盒装置(204),降低了液晶面板的报废率。同时,由于TFT阵列基板先经过清洁机构(201)清洁处理清除TFT阵列基板上的微粒后再由阵列检测机(202)对TFT阵列基板进行检测,避免了TFT阵列基板上的微粒对阵列测试机(202)的损伤。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : chinois (ZH)
Langue de dépôt : chinois (ZH)