WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2014008456) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE MICROSCOPIE À FORCE ATOMIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/008456    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/049421
Date de publication : 09.01.2014 Date de dépôt international : 05.07.2013
CIB :
G01Q 60/24 (2010.01), G01Q 30/08 (2010.01)
Déposants : BRUKER NANO, INC. [US/US]; 112 Robin Hill Road Santa Barbara, CA 93117 (US).
IMEC [BE/BE]; Kapeldreef 75 3001 Leuven (BE)
Inventeurs : PAREDIS, Kristof; (BE).
VANDERVORST, Wilfried; (BE)
Mandataire : NEWHOLM, Timothy, E.; Boyle Fredrickson, S.C. 840 North Plankinton Avenue Milwaukee, WI 53202 (US)
Données relatives à la priorité :
61/668,333 05.07.2012 US
12176325.4 13.07.2012 EP
Titre (EN) APPARATUS AND METHOD FOR ATOMIC FORCE MICROSCOPY
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ DE MICROSCOPIE À FORCE ATOMIQUE
Abrégé : front page image
(EN)An apparatus (100) for performing atomic force microscopy is disclosed. The apparatus comprises an A I'M measurement unit (102) configured to operate in a first controlled atmosphere (300) and a pretreatment unit (101) configured to operate in a second controlled atmosphere (400), the second controlled atmosphere being different from the first controlled atmosphere. The pretreatment unit is connected to the ATM measurement unit. In one embodiment, the second controlled atmosphere is a vacuum atmosphere, whereas the first controlled atmosphere includes at least an inert gas.
(FR)L'invention concerne un appareil (100) destiné à réaliser une microscopie à force atomique. Cet appareil comprend une unité de mesure de microscopie à force atomique (AFM)(102) configurée pour fonctionner dans une première atmosphère contrôlée (300), ainsi qu'une unité de pré-traitement (101) configurée pour fonctionner dans une deuxième atmosphère contrôlée (400), la deuxième atmosphère étant différente de la première atmosphère. L'unité de pré-traitement est reliée à l'unité de mesure de AFM. Dans un mode de réalisation, la deuxième atmosphère contrôlée est une atmosphère sous vide tandis que la première atmosphère contrôlée contient au moins un gaz inerte.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)