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1. (WO2014007758) UTILISATION DE MANDRINS À DÉPRESSION AFIN DE MAINTENIR UNE PLAQUETTE OU UNE PILE SECONDAIRE DE PLAQUETTE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/007758    N° de la demande internationale :    PCT/SG2013/000269
Date de publication : 09.01.2014 Date de dépôt international : 28.06.2013
CIB :
H01L 21/67 (2006.01), H01L 21/683 (2006.01), B65G 49/07 (2006.01), B25B 11/00 (2006.01)
Déposants : HEPTAGON MICRO OPTICS PTE. LTD. [SG/SG]; 26 Woodlands Loop Singapore 738317 (SG)
Inventeurs : RUDMANN, Hartmut; (CH).
HEIMGARTNER, Stephan; (CH).
VIDALLON, John A.; (SG)
Mandataire : ALLEN & GLEDHILL LLP; One Marina Boulevard #28-00 Singapore 018989 (SG)
Données relatives à la priorité :
61/667,659 03.07.2012 US
Titre (EN) USE OF VACUUM CHUCKS TO HOLD A WAFER OR WAFER SUB-STACK
(FR) UTILISATION DE MANDRINS À DÉPRESSION AFIN DE MAINTENIR UNE PLAQUETTE OU UNE PILE SECONDAIRE DE PLAQUETTE
Abrégé : front page image
(EN)Techniques are described for holding a wafer or wafer sub-stack to facilitate further processing of the wafer of sub-stack. In some implementations, a wafer or wafer sub-stack is held by a vacuum chuck in a manner that can help reduce bending of the wafer or wafer sub-stack.
(FR)L'invention concerne des techniques de maintien d'une plaquette ou d'une pile secondaire de plaquette, afin de faciliter le traitement ultérieur de la plaquette ou de la pile secondaire. Dans certains modes de réalisation, une plaquette ou une pile secondaire de plaquette est maintenue par un mandrin à dépression de manière à aider à réduire la courbure de la plaquette ou de la pile secondaire de plaquette.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)