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1. (WO2014007544) COMPOSITE DE POLYMÈRE POLY (ACIDE AMIQUE) ET SON PROCÉDÉ DE PRÉPARATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/007544    N° de la demande internationale :    PCT/KR2013/005907
Date de publication : 09.01.2014 Date de dépôt international : 03.07.2013
CIB :
C08L 79/08 (2006.01), C08K 3/36 (2006.01), C08G 73/10 (2006.01), C08J 5/18 (2006.01)
Déposants : LG CHEM. LTD. [KR/KR]; 128 Yeoui-daero Yeongdeungpo-gu Seoul 150-721 (KR)
Inventeurs : PARK, HangAh; (KR).
JO, Jung Ho; (KR).
KIM, KyungJun; (KR).
LEE, JinHo; (KR).
SHIN, BoRa; (KR).
YUN, Cheolmin; (KR)
Mandataire : KIM, Aera; 4th floor #21, Teheran-ro 52-gil Gangnam-gu Seoul 135-919 (KR)
Données relatives à la priorité :
10-2012-0072298 03.07.2012 KR
10-2013-0077439 02.07.2013 KR
Titre (EN) POLY(AMIC ACID) POLYMER COMPOSITE AND PREPARATION METHOD THEREOF
(FR) COMPOSITE DE POLYMÈRE POLY (ACIDE AMIQUE) ET SON PROCÉDÉ DE PRÉPARATION
(KO) 폴리아믹산 고분자 복합체 및 이의 제조방법
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to: a poly(amic acid) polymer composite comprising 50-99 wt% of a poly(amic acid) having a repeating unit represented by chemical formula 1 which can be applied to a preparation of a display substrate due to high transparency and low thermal expansion, and 1-50 wt% of silica-based particles, and; and a preparation method therefor.
(FR)La présente invention concerne : un composite de polymère poly(acide amique) comprenant de 50 à 99 % en poids d'un poly(acide amique) possédant une unité répétitive représentée par la formule chimique 1 qui peut être appliqué à une préparation d'un substrat d'affichage du fait de sa grande transparence et faible expansion thermique, et de 1 à 50 % en poids de particules à base de silice, et un procédé de préparation correspondant.
(KO)본 발명은 고투명성과 함께 낮은 열팽창성을 가져 디스플레이 기판 제조에 적용가능한 화학식 1의 반복단위를 갖는 폴리아믹산 고분자 50 내지 99 중량%와, 실리카계 입자 1 내지 50 중량%를 포함하는 폴리아믹산 고분자 복합체 및 이의 제조방법에 관한 것이다.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : coréen (KO)
Langue de dépôt : coréen (KO)