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1. (WO2014007361) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF ET COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À UN RAYONNEMENT OU AUX RAYONS ACTINIQUES POUR UTILISATION DANS LE PROCÉDÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/007361    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/068458
Date de publication : 09.01.2014 Date de dépôt international : 28.06.2013
CIB :
G03F 7/039 (2006.01), C08F 220/18 (2006.01), C08F 220/28 (2006.01), G03F 7/038 (2006.01), G03F 7/32 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventeurs : FUKUHARA, Toshiaki; (JP).
IWATO, Kaoru; (JP)
Mandataire : KURATA, Masatoshi; c/o SUZUYE & SUZUYE, 6th floor, Kangin-Fujiya Bldg., 1-3-2, Toranomon, Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-149543 03.07.2012 JP
Titre (EN) METHOD OF FORMING PATTERN AND ACTINIC-RAY- OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR USE IN THE METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF ET COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À UN RAYONNEMENT OU AUX RAYONS ACTINIQUES POUR UTILISATION DANS LE PROCÉDÉ
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a method of forming a pattern, including (a) forming a film comprising an actinic-ray- or radiation-sensitive resin composition comprising a resin (P) containing a repeating unit (P1) with a cyclic carbonic acid ester structure and any of repeating units (P2) of general formula (P2-1) below, and a compound (B) that when exposed to actinic rays or radiation, generates an acid, (b) exposing the film to actinic rays or radiation, and (c) developing the exposed film with a developer comprising an organic solvent to thereby obtain a negative pattern.
(FR)La présente invention porte sur un procédé de formation de motif, comprenant (a) former un film comprenant une composition de résine sensible à un rayonnement ou aux rayons actiniques comprenant une résine (P) contenant une unité structurale (P1) ayant une structure d'ester d'acide carbonique cyclique et l'une quelconque d'unités structurales (P2) de formule générale (P2-1) ci-dessous, et un composé (B) qui lorsqu'il est exposé à un rayonnement ou aux rayons actiniques, génère un acide, (b) exposer le film à un rayonnement ou aux rayons actiniques et (c) développer le film exposé avec un développeur comprenant un solvant organique pour ainsi obtenir un motif négatif.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)