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1. (WO2014007339) ÉLÉMENT EN CaF2 POLYCRISTALLIN, ÉLÉMENT DESTINÉ À UN DISPOSITIF DE TRAITEMENT AU PLASMA, DISPOSITIF DE TRAITEMENT AU PLASMA ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE BAGUE DE MISE AU POINT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/007339    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/068395
Date de publication : 09.01.2014 Date de dépôt international : 04.07.2013
CIB :
C04B 37/00 (2006.01), B23K 20/00 (2006.01), C01F 11/22 (2006.01), C04B 35/553 (2006.01), C23C 16/44 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP)
Inventeurs : UEHARA, Naoyasu; (JP)
Mandataire : NAGAI, Fuyuki; c/o NAGAI & ASSOCIATES, Fukoku Seimei Building, 2-2-2, Uchisaiwaicho, Chiyoda-ku, Tokyo 1000011 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-151367 05.07.2012 JP
Titre (EN) POLYCRYSTALLINE CaF2 MEMBER, MEMBER FOR PLASMA TREATMENT DEVICE, PLASMA TREATMENT DEVICE, AND PROCESS FOR PRODUCING FOCUSING RING
(FR) ÉLÉMENT EN CaF2 POLYCRISTALLIN, ÉLÉMENT DESTINÉ À UN DISPOSITIF DE TRAITEMENT AU PLASMA, DISPOSITIF DE TRAITEMENT AU PLASMA ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE BAGUE DE MISE AU POINT
(JA) 多結晶CaF部材、プラズマ処理装置用部材、プラズマ処理装置およびフォーカスリングの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)This polycrystalline CaF2 member is an assembly obtained by pressure-bonding multiple polycrystalline CaF2 bodies to each other.
(FR)La présente invention concerne un élément en CaF2 polycristallin consistant en un assemblage obtenu par liaison par pression de corps multiples en CaF2 polycristallin les uns aux autres.
(JA) 多結晶CaF部材は、CaFからなる複数の多結晶体を圧着した組み合わせ体からなる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)