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1. (WO2014007231) COMPOSITION PHOTOSENSIBLE POSITIVE, TRANSISTOR EN COUCHE MINCE ET COMPOSÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/007231    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/068097
Date de publication : 09.01.2014 Date de dépôt international : 02.07.2013
CIB :
G03F 7/075 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01)
Déposants : KANEKA CORPORATION [JP/JP]; 2-3-18, Nakanoshima, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5308288 (JP)
Inventeurs : IDE Masahito; (JP).
INARI Hirofumi; (JP).
KITAJIMA Aki; (JP).
TAHARA Komei; (JP).
MANABE Takao; (JP)
Mandataire : YASUTOMI & ASSOCIATES; 5-36, Miyahara 3-chome, Yodogawa-ku, Osaka-shi, Osaka 5320003 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-150354 04.07.2012 JP
2012-230873 18.10.2012 JP
2012-272734 13.12.2012 JP
2012-282900 26.12.2012 JP
2013-063936 26.03.2013 JP
Titre (EN) POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION, THIN FILM TRANSISTOR, AND COMPOUND
(FR) COMPOSITION PHOTOSENSIBLE POSITIVE, TRANSISTOR EN COUCHE MINCE ET COMPOSÉ
(JA) ポジ型感光性組成物、薄膜トランジスタ及び化合物
Abrégé : front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide a positive photosensitive composition which has excellent patterning properties and provides a cured product (a thin film) that has excellent electrical insulation reliability. A first positive photosensitive composition of the present invention is characterized by containing (A) a compound which contains an alkenyl group or an SiH group in each molecule and has a structure that is decomposed in the presence of an acid and generates an acidic group or a hydroxyl group, (B) a compound which contains an SiH group or an alkenyl group in each molecule, (C) a hydrosilylation catalyst and (D) a photoacid generator.
(FR)La présente invention a pour but de proposer une composition photosensible positive qui a d'excellentes propriétés de formation de motif et fournit un produit durci (une couche mince) qui a une excellente fiabilité d'isolation électrique. Une première composition photosensible positive de la présente invention est caractérisée en ce qu'elle contient (A) un composé qui contient un groupe alcényle ou un groupe SiH dans chaque molécule et a une structure qui est décomposée en présence d'un acide et génère un groupe acide ou un groupe hydroxyle, (B) un composé qui contient un groupe SiH ou un groupe alcényle dans chaque molécule, (C) un catalyseur d'hydrosilylation et (D) un générateur de photoacide.
(JA)本発明は、パターニング性及び硬化物(薄膜)の電気的絶縁信頼性に優れるポジ型感光性組成物を提供することを目的とするものであり、第1の本発明のポジ型感光性組成物は、(A)酸存在下で分解し酸性基又は水酸基が発現する構造を有する、一分子中にアルケニル基又はSiH基を含有する化合物、(B)一分子中にSiH基又はアルケニル基を含有する化合物、(C)ヒドロシリル化触媒、及び、(D)光酸発生剤を含有することを特徴とする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)