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1. (WO2014007218) FILM D'ABSORPTION DE LUMIÈRE SÉLECTIF, TUBE DE COLLECTE DE CHALEUR ET SYSTÈME DE PRODUCTION D'ÉNERGIE THERMIQUE SOLAIRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/007218    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/068056
Date de publication : 09.01.2014 Date de dépôt international : 01.07.2013
CIB :
F24J 2/48 (2006.01), F03G 6/00 (2006.01), F24J 2/24 (2006.01)
Déposants : ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 5-1, Marunouchi 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405 (JP)
Inventeurs : OKADA, Natsuko; (JP).
MITSUI, Akira; (JP).
AOMINE, Nobutaka; (JP)
Mandataire : SENMYO, Kenji; 4th Floor, SIA Kanda Square, 17, Kanda-konyacho, Chiyoda-ku, Tokyo 1010035 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-149859 03.07.2012 JP
Titre (EN) SELECTIVE LIGHT ABSORPTION FILM, HEAT COLLECTION TUBE AND SOLAR THERMAL POWER GENERATION SYSTEM
(FR) FILM D'ABSORPTION DE LUMIÈRE SÉLECTIF, TUBE DE COLLECTE DE CHALEUR ET SYSTÈME DE PRODUCTION D'ÉNERGIE THERMIQUE SOLAIRE
(JA) 光選択吸収膜、集熱管および太陽熱発電装置
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a selective light absorption film which exhibits wavelength selectivity, namely, high solar energy absorptance (α) at 300 to 2500nm according to ISO 9050-2003 and low emissivity (ε) at a working temperature of 450°C or lower and which has a simple film constitution and ensures high productivity. A selective light absorption film formed on a substrate, characterized in that: the film comprises an infrared reflection layer, a sunlight-absorbing layer, and an anti-reflection layer in this order from the substrate side; and the absorbing layer is made of a metal nitride which contains at least one metal element selected from the group consisting of Cr, Fe and Ni, silicon and nitrogen in a total amount of 70at% or more.
(FR)L'invention concerne un film d'absorption de lumière sélectif qui présente une sélectivité de longueur d'onde, à savoir un facteur d'absorption d'énergie solaire (α) élevé de 300 à 2 500 nm selon la norme ISO 9050-2003 et une faible émissivité (ε) à une température de service inférieure ou égale à 450 °C et qui a une constitution de film simple et assure une productivité élevée. Un film d'absorption de lumière sélectif formé sur un substrat, caractérisé en ce que : le film comprend une couche de réflexion infrarouge, une couche d'absorption de lumière solaire, et une couche anti-réflexion dans cet ordre à partir du côté du substrat ; et la couche d'absorption est faite d'un nitrure de métal qui contient au moins un élément métallique choisi dans le groupe constitué par le Cr, le Fe et le Ni, du silicium et de l'azote en une quantité totale supérieure ou égale à 70 en pourcentage atomique.
(JA) ISO9050-2003に準じた300~2500nmの日射エネルギー吸収率αが高く、使用温度である450℃以下での放射率εが低くなる波長選択性を有し、膜構成が簡単で生産性の高い光選択吸収膜の提供。 基材上に形成される光選択吸収膜であって、前記基材側から順に赤外線反射層、太陽光の吸収層および反射防止層をこの順番に有し、前記吸収層が、Cr、FeおよびNiからなる群より選択される少なくとも1種の金属元素、ケイ素および窒素を70原子%以上で含有する金属窒化物からなることを特徴とする光選択吸収膜。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)