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1. (WO2014007040) MATÉRIAU DE TRANSFERT PHOTOSENSIBLE, FILM DURCI, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILM DURCI, DISPOSITIF D'AFFICHAGE ÉLECTROLUMINESCENT ORGANIQUE, DISPOSITIF D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES, ET DISPOSITIF CAPACITIF D'ENTRÉE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/007040    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/066227
Date de publication : 09.01.2014 Date de dépôt international : 12.06.2013
CIB :
G03F 7/039 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/11 (2006.01)
Déposants : FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 (JP)
Inventeurs : ITO Hideaki; (JP).
KASHIWAGI Daisuke; (JP).
KAWABE Yasumasa; (JP)
Mandataire : ODAHARA Shuichi; 6F FFTP M0 BLDG., 1250 Takematsu, Minamiashigara-shi, Kanagawa 2500111 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-148328 02.07.2012 JP
Titre (EN) PHOTOSENSITIVE TRANSFER MATERIAL, CURED FILM, METHOD FOR PRODUCING CURED FILM, ORGANIC EL DISPLAY DEVICE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, AND CAPACITIVE INPUT DEVICE
(FR) MATÉRIAU DE TRANSFERT PHOTOSENSIBLE, FILM DURCI, PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UN FILM DURCI, DISPOSITIF D'AFFICHAGE ÉLECTROLUMINESCENT ORGANIQUE, DISPOSITIF D'AFFICHAGE À CRISTAUX LIQUIDES, ET DISPOSITIF CAPACITIF D'ENTRÉE
(JA) 感光性転写材料、硬化膜およびその製造方法、有機EL表示装置、液晶表示装置並びに静電容量型入力装置
Abrégé : front page image
(EN)This photosensitive transfer material sequentially comprises a supporting body and a photosensitive resin composition layer that contains (A) a polymer component and (B) a photoacid generator in this order. The polymer component (A) contains a polymer that satisfies (1) and/or (2) described below. (1) A polymer which has both a constituent unit (a1) having a group wherein an acid group is protected with an acid-decomposable group and a constituent unit (a2) having a crosslinkable group. (2) Both a polymer which has a constituent unit (a1) having a group wherein an acid group is protected with an acid-decomposable group, and a polymer which has a constituent unit (a2) having a crosslinkable group.
(FR)La présente invention concerne un matériau de transfert photosensible qui comprend dans l'ordre un corps de support et une couche de composition de résine photosensible qui contient (A) un composant polymère et (B) un générateur photoacide dans cet ordre. Le composant polymère (A) contient un polymère qui satisfait aux équations (1) et/ou (2) décrites ci-dessous. (1) Un polymère qui possède à la fois un motif constituant (a1) possédant un groupe dans lequel un groupe acide est protégé avec un groupe pouvant être décomposé par un acide et un motif constituant (a2) possédant un groupe pouvant être réticulé. (2) A la fois un polymère qui possède un motif constituant (a1) possédant un groupe dans lequel un groupe acide est protégé avec un groupe pouvant être décomposé par un acide, et un polymère qui possède un motif constituant (a2) possédant un groupe pouvant être réticulé.
(JA)感光性転写材料は、支持体と、(A)重合体成分および(B)光酸発生剤を含む感光性樹脂組成物層と、をこの順で有する。 (A)重合体成分は、下記(1)および(2)の少なくとも一方を満たす重合体を含む。 (1)酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位(a1)および架橋性基を有する構成単位(a2)をともに有する重合体。 (2)酸基が酸分解性基で保護された基を有する構成単位(a1)を有する重合体および架橋性基を有する構成単位(a2)を有する重合体をともに含む。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)