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1. (WO2014006951) APPAREIL DE FORMATION DE FILM
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/006951    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/061103
Date de publication : 09.01.2014 Date de dépôt international : 12.04.2013
CIB :
C23C 14/24 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01), H05B 33/10 (2006.01)
Déposants : TOKYO ELECTRON LIMITED [JP/JP]; 3-1, Akasaka 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1076325 (JP)
Inventeurs : NOGAMI, Takafumi; (JP).
KUBOTA, Shinji; (JP)
Mandataire : SAKAI, Hiroaki; Sakai International Patent Office, Kasumigaseki Building, 2-5, Kasumigaseki 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1006020 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-151355 05.07.2012 JP
2012-220065 02.10.2012 JP
Titre (EN) FILM FORMING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE FORMATION DE FILM
(JA) 成膜装置
Abrégé : front page image
(EN)A gas flow deposition apparatus (10) is provided with a process container (11), a material container (13), a transporting pipe (15) and a conductance adjusting unit (21). The process container (11) demarcates a process chamber (12) that contains a substrate (S) to be processed. The material container (13) internally contains a deposition material that is formed into a film on the substrate (S), and discharges a gas that contains a vapor of the deposition material from a discharge port (14). The transporting pipe (15) extends from the discharge port (14) of the material container (13) toward the inside of the process chamber (12), and transports the gas, which contains a vapor of the deposition material and is discharged from the discharge port (14), to the inside of the process chamber (12). The conductance adjusting unit (21) is provided on the transporting pipe (15), and adjusts the conductance of the transporting pipe (15) so that the pressure of the material container (13) is at a predetermined value or higher.
(FR)L'invention concerne un appareil de dépôt à flux de gaz (10) pourvu d'un récipient de traitement (11), d'un récipient de matériau (13), d'une conduite de transport (15) et d'une unité de réglage de conductance (21). Le récipient de traitement (11) délimite une chambre de traitement (12) qui contient un substrat (S) à traiter. L'intérieur du récipient de matériau (13) contient un matériau de dépôt qui est transformé en film sur le substrat (S), et évacue un gaz qui contient une vapeur du matériau de dépôt par un orifice d'évacuation (14). La conduite de transport (15) s'étend de l'orifice d'évacuation (14) du récipient de matériau (13) en direction de l'intérieur de la chambre de traitement (12), et transporte le gaz, qui contient une vapeur du matériau de dépôt et est évacué de l'orifice d'évacuation (14), vers l'intérieur de la chambre de traitement (12). L'unité de réglage de conductance (21) est agencée sur la conduite de transport (15) et règle la conductance de la conduite de transport (15), de sorte que la pression du récipient de matériau (13) atteint un niveau supérieur ou égal à une valeur prédéterminée.
(JA) ガスフロー蒸着装置10は、処理容器11と、材料容器13と、輸送管15と、コンダクタンス調整部21とを備える。処理容器11は、処理対象の基板Sを収容する処理室12を画成する。材料容器13は、基板Sに成膜される蒸着材料を内部に収容し、蒸着材料の蒸気を含むガスを流出口14から流出する。輸送管15は、材料容器13の流出口14から処理室12の内部へ向かって延在し、流出口14から流出される蒸着材料の蒸気を含むガスを処理室12の内部へ輸送する。コンダクタンス調整部21は、輸送管15に設けられ、材料容器13の圧力が所定値以上となるように輸送管15のコンダクタンスを調整する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)