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1. (WO2014006944) DISPOSITIF D'EXPOSITION DE PHOTOALIGNEMENT ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION DE PHOTOALIGNEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/006944    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/059577
Date de publication : 09.01.2014 Date de dépôt international : 29.03.2013
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), G02F 1/1337 (2006.01)
Déposants : V TECHNOLOGY CO., LTD. [JP/JP]; 134, Godo-cho, Hodogaya-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2400005 (JP)
Inventeurs : KAJIYAMA Koichi; (JP).
HASHIMOTO Kazushige; (JP).
ARAI Toshinari; (JP)
Mandataire : EICHI PATENT & TRADEMARK CORP.; 45-13, Sengoku 4-chome, Bunkyo-ku, Tokyo 1120011 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-151630 05.07.2012 JP
Titre (EN) PHOTO-ALIGNMENT EXPOSURE DEVICE AND PHOTO-ALIGNMENT EXPOSURE METHOD
(FR) DISPOSITIF D'EXPOSITION DE PHOTOALIGNEMENT ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION DE PHOTOALIGNEMENT
(JA) 光配向露光装置及び光配向露光方法
Abrégé : front page image
(EN)The purpose of the present invention is to eliminate alignment disruption in the vicinity of the boundaries of divided regions of a unit image region when using an alignment exposure scheme in a multi-domain method. A photo-alignment exposure device (100) divides each unit image region for a liquid crystal element into a plurality of divided regions and photo-aligns an alignment material film for each of the divided regions in mutually different directions. The photo-alignment exposure device is provided with: a first mask (M1) and first exposure device (11) for independent proximity exposure of a first divided region (Da1); a second mask (M2) and second exposure device (12) for independent proximity exposure of a second divided region (Da2) adjacent to the first divided region (Da1); and a third mask (M3) and third exposure device (13) for exposing a region on the first divided region (Da1) side of the boundary between the first divided region (Da1) and the second divided region (Da2). The third exposure device (13) is provided with a light irradiation angle to a surface (Bs) to be exposed to the light that is the same as the angle for the first exposure device (11) or the second exposure device (12), and a light concentrating means (20) is provided between the mask opening of the third mask (M3) and the surface (Bs) that is to be exposed to the light, said light concentrating means (20) being used for concentrating light passing through the mask in the region on the first divided region (Da1) side of the boundary.
(FR)L'objet de la présente invention consiste à éliminer une interruption d'alignement au voisinage des frontières de régions divisées d'une région d'image unitaire lors de l'utilisation d'un schéma d'exposition d'alignement dans un procédé à domaines multiples. Un dispositif d'exposition de photoalignement (100) divise chaque région d'image unitaire pour un élément de cristaux liquides en une pluralité de régions divisées et réalise un photoalignement d'un film de matériau d'alignement pour chacune des régions divisées dans des directions mutuellement différentes. Le dispositif d'exposition de photoalignement est doté : d'un premier masque (M1) et d'un premier dispositif d'exposition (11) pour une exposition de proximité indépendante d'une première région divisée (Da1); d'un deuxième masque (M2) et d'un deuxième dispositif d'exposition (12) pour une exposition de proximité indépendante d'une deuxième région divisée (Da2) adjacente à la première région divisée (Da1); et d'un troisième masque (M3) et d'un troisième dispositif d'exposition (13) pour l'exposition d'une région sur le côté première région divisée (Da1) de la frontière entre la première région divisée (Da1) et la seconde région divisée (Da2). Le troisième dispositif d'exposition (13) est doté d'un angle d'émission de lumière par rapport à une surface (Bs) devant être exposée à la lumière qui est identique à l'angle pour le premier dispositif d'exposition (11) ou le deuxième dispositif d'exposition (12), et un moyen de concentration de lumière (20) est situé entre l'ouverture de masque du troisième masque (M3) et la surface (Bs) qui doit être exposée la lumière, ledit moyen de concentration de lumière (20) étant utilisé pour concentrer la lumière traversant le masque dans la région sur le côté première région (Da1) divisée de la frontière.
(JA) 配向露光方式をマルチドメイン法に適用する場合に、単位画像領域の分割領域における境界付近の配向乱れを解消する。 液晶表示素子の各単位画像領域を複数の分割領域に分割し、各分割領域の配向材料膜をそれぞれ異なる方向に光配向する光配向露光装置100であり、第1分割領域Da1を単独でプロキシミティ露光するための第1マスクM1及び第1露光装置11と、第1分割領域Da1に隣接する第2分割領域Da2を単独でプロキシミティ露光するための第2マスクM2及び第2露光装置12と、第1分割領域Da1と第2分割領域Da1の境界付近における第1分割領域Da1側の領域を露光するための第3マスクM3及び第3露光装置13を備え、第3露光装置13は、被露光面Bsに対して第1露光装置11又は第2露光装置11と同じ光照射角度を備え、第3マスクM3のマスク開口と被露光面Bsとの間に境界付近における第1分割領域Da1側の領域にマスク透過光を集光させる集光手段20を備えた。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)