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1. (WO2014006943) PROCÉDÉ D'EXPOSITION DE PHOTOALIGNEMENT ET DISPOSITIF D'EXPOSITION DE PHOTOALIGNEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/006943    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/059576
Date de publication : 09.01.2014 Date de dépôt international : 29.03.2013
CIB :
G02F 1/1337 (2006.01), G02F 1/13 (2006.01)
Déposants : V TECHNOLOGY CO., LTD. [JP/JP]; 134, Godo-cho, Hodogaya-ku, Yokohama-shi, Kanagawa 2400005 (JP)
Inventeurs : KAJIYAMA Koichi; (JP).
HASHIMOTO Kazushige; (JP).
ARAI Toshinari; (JP)
Mandataire : EICHI PATENT & TRADEMARK CORP.; 45-13, Sengoku 4-chome, Bunkyo-ku, Tokyo 1120011 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-151629 05.07.2012 JP
Titre (EN) PHOTO-ALIGNMENT EXPOSURE METHOD AND PHOTO-ALIGNMENT EXPOSURE DEVICE
(FR) PROCÉDÉ D'EXPOSITION DE PHOTOALIGNEMENT ET DISPOSITIF D'EXPOSITION DE PHOTOALIGNEMENT
(JA) 光配向露光方法及び光配向露光装置
Abrégé : front page image
(EN)The purpose of the present invention is to remove alignment disorder near the boundary of divided regions of a unit image region when an alignment exposure scheme is applied in a multi-domain method. The photo-alignment exposure method divides each unit image region (Pa) of a liquid crystal display element into a plurality of divided regions (Da1, Da2) and photo-aligns the alignment material layer of the respective divided regions (Da1, Da2) in mutually different directions, said photo-alignment exposure method comprising: a first exposure process wherein light is irradiated onto the entire surface to be exposed of the unit image region (Pa) at an inclined photo-irradiation angle (θ1); and a second exposure process wherein light is irradiated onto one of the divided regions (Da1, Da2) (a second divided region (Da2)) at an inclined photo-irradiation angle (θ2) different from the photo-irradiation angle (θ1) in the first exposure process. In the second exposure process, light is irradiated through a mask pattern corresponding to one of the divided regions (Da1, Da2) (the second divided region (Da2)), and the light passing through the mask pattern is collected by a light-collecting means (13) and irradiated onto the second divided region (Da2) to be exposed.
(FR)L'objet de la présente invention consiste à supprimer le désordre d'alignement près de la frontière de régions divisées d'une région d'image unitaire lorsqu'un schéma d'exposition d'alignement est appliqué dans un procédé à domaines multiples. Le procédé d'exposition de photoalignement divise chaque région d'image unitaire (Pa) d'un élément d'affichage à cristaux liquides en une pluralité de régions divisées (Da1, Da2) et réalise le photoalignement de la couche de matériau d'alignement des régions divisées respectives (Da1, Da2) dans des directions mutuellement différentes, ledit procédé d'exposition de photoalignement comprenant : un premier procédé d'exposition dans lequel une lumière est émise vers toute la surface devant être exposée de la région d'image unitaire (Pa) à un angle de photo-émission incliné (θ1) ; et un second procédé d'exposition dans lequel la lumière est émise vers l'une des régions divisées (Da1, Da2) (une seconde région divisée (Da2)) à un angle de photo-émission incliné (θ2) différent de l'angle de photo-émission (θ1) du premier procédé d'exposition. Dans le second procédé d'exposition, la lumière est émise à travers un motif de masque correspondant à une des régions divisées (Da1, Da2) (la seconde région divisée (Da2)), et la lumière traversant le motif de masque est collectée par un moyen de collecte de lumière (13) et émise vers la seconde région divisée (Da2) devant être exposée.
(JA) 配向露光方式をマルチドメイン法に適用する場合に、単位画像領域の分割領域における境界付近の配向乱れを解消する。 液晶表示素子の各単位画像領域(Pa)を複数の分割領域(Da1,Da2)に分割し、各分割領域(Da1,Da2)の配向材料膜をそれぞれ異なる方向に光配向する光配向露光方法であって、単位画像領域(Pa)全面の被露光面に対して傾斜した光照射角度(θ1)で光を照射する第1露光工程と、分割領域(Da1,Da2)の一つの領域(第2分割領域(Da2))に対して、第1露光工程における光照射角度(θ1)とは異なる角度で傾斜した光照射角度(θ2)で光を照射する第2露光工程を有する。第2露光工程は、分割領域(Da1,Da2)の一つの領域(第2分割領域(Da2))に対応したマスクパターンを介して光を照射し、マスクパターンの透過光を集光手段(13)によって集光して露光する第2分割領域(Da2)に照射する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)