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1. (WO2014006743) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE PARTICULE DE PHOSPHORE DE SILICATE POURVUE D'UN FILM DE REVÊTEMENT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/006743    N° de la demande internationale :    PCT/JP2012/067341
Date de publication : 09.01.2014 Date de dépôt international : 06.07.2012
CIB :
C09K 11/08 (2006.01), C09K 11/59 (2006.01), C09K 11/64 (2006.01), H01L 33/50 (2010.01)
Déposants : SUMITOMO METAL MINING CO., LTD. [JP/JP]; 11-3, Shimbashi 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1058716 (JP) (Tous Sauf US).
TAKANASHI Shoji [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TAKATSUKA Yuji [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TAKANASHI Shoji; (JP).
TAKATSUKA Yuji; (JP)
Mandataire : TSUJIKAWA Michinori; Taishodo Bldg., 6F, 14-16, Shiba 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1080014 (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING SILICATE PHOSPHOR PARTICLE WITH COATING FILM
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE PARTICULE DE PHOSPHORE DE SILICATE POURVUE D'UN FILM DE REVÊTEMENT
(JA) 被覆膜付き珪酸塩蛍光体粒子の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Provided is a method for producing a silicate phosphor particle which is provided with a coating film having high moisture resistance and water resistance without lowering fluorescence intensity. After forming a base layer of a partially hydrolyzed aluminum organic metal compound on the surface of a silicate phosphor particle, a first coating film is formed on the base layer by forming a coating film of a first coating liquid, which is obtained by concentrating a hydrolysis-condensation product of a silane organic metal compound, on the base layer and subjecting the coating film to a heat treatment in the atmosphere at 110-350°C. This first coating film is coated with a dimethyl siloxane having an Si-OH group at an end and subjected to a heat treatment in the atmosphere at 250-300°C, thereby forming a second coating film on the first coating film.
(FR)Cette invention concerne un procédé de production d'une particule de phosphore de silicate pourvue d'un film de revêtement ayant une résistance à l'humidité et une résistance à l'eau élevées sans abaisser l'intensité de la fluorescence. Après formation d'une couche de base constituée d'un composé métallique organique d'aluminium partiellement hydrolysé sur la surface d'une particule de phosphore de silicate, une première couche de revêtement est formée sur la couche de base par formation d'un film de revêtement à base d'un premier liquide de revêtement, qui est obtenu par concentration d'un produit d'hydrolyse-condensation d'un composé métallique organique de silane, sur la couche de base et soumission dudit film de revêtement à un traitement thermique dans une atmosphère à 110-350°C. Ce premier film de revêtement est revêtu d'un diméthylsiloxane ayant un groupe Si-OH à une extrémité et soumis à un traitement thermique dans une atmosphère à 250-300°C, pour former ainsi un second film de revêtement sur le premier film de revêtement.
(JA) 蛍光強度を低下させず且つ高い耐湿性及び耐水性を有する被覆膜を備えた珪酸塩蛍光体粒子を製造する方法を提供する。 珪酸塩蛍光体粒子の表面に一部加水分解したアルミニウム有機金属化合物の下地層を形成した後、下地層の上にシラン有機金属化合物の加水分解縮合物を濃縮した第1被覆液で被膜形成し、大気雰囲気下に110~350℃で加熱処理して第1被覆膜を形成する。この第1被覆膜の上に、更に末端にSi-OH基を有するジメチルシロキサンを被覆し、大気雰囲気下に250~300℃で加熱処理して第2被覆膜を形成する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)