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1. (WO2014006319) SUBSTRAT COMPRENANT UNE COUCHE DE SILICIUM ET/OU DE GERMANIUM ET UN OU PLUSIEURS NANOFILS D'ORIENTATION PERPENDICULAIRE A LA SURFACE DU SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/006319    N° de la demande internationale :    PCT/FR2013/051552
Date de publication : 09.01.2014 Date de dépôt international : 02.07.2013
CIB :
C30B 29/40 (2006.01), C30B 29/60 (2006.01), C30B 23/02 (2006.01), H01L 29/06 (2006.01), B82Y 10/00 (2011.01)
Déposants : SAINT-GOBAIN RECHERCHE [FR/FR]; 39, Quai Lucien Lefranc 93300 Aubervilliers (FR).
CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE [FR/FR]; 3, Rue Michel Ange F-75794 PARIS cedex 16 (FR)
Inventeurs : SONDERGARD, Elin; (FR).
COHIN, Yann; (FR).
HARMAND, Jean-Christophe; (FR)
Mandataire : René MULLER; SAINT-GOBAIN RECHERCHE 39, Quai Lucien Lefranc 93300 Aubervilliers (FR)
Données relatives à la priorité :
1256374 03.07.2012 FR
Titre (EN) SUBSTRATE COMPRISING A LAYER OF SILICON AND/OR GERMANIUM AND ONE OR A PLURALITY OF NANOWIRES ORIENTED PERPENDICULAR TO THE SURFACE OF THE SUBSTRATE
(FR) SUBSTRAT COMPRENANT UNE COUCHE DE SILICIUM ET/OU DE GERMANIUM ET UN OU PLUSIEURS NANOFILS D'ORIENTATION PERPENDICULAIRE A LA SURFACE DU SUBSTRAT
Abrégé : front page image
(EN)The present invention concerns a substrate comprising a continuous or discontinuous layer of silicon and/or germanium consisting of one or a plurality of monocrystalline grains, and on said layer, one or a plurality of nanowires of which the longitudinal axis is oriented perpendicular to the surface of the substrate. The invention also concerns a method for producing such a substrate.
(FR)La présente invention concerne un substrat comprenant une couche continue ou discontinue de silicium et/ou de germanium constituée d'un ou plusieurs grains monocristallins, et sur cette couche, un ou plusieurs nanofils dont l'axe longitudinal est orienté perpendiculairement à la surface du substrat. L'invention concerne également un procédé de fabrication d'un tel substrat.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)