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1. (WO2014005780) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/005780    N° de la demande internationale :    PCT/EP2013/061560
Date de publication : 09.01.2014 Date de dépôt international : 05.06.2013
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL).
ASML HOLDING N.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Inventeurs : WESTERLAKEN, Jan,; (NL).
BLOKS, Ruud; (NL).
DELMASTRO, Peter; (US).
LAURENT, Thibault; (NL).
LEENDERS, Martinus; (NL).
SCHUSTER, Mark; (US).
WARD, Christopher; (US).
VAN BOXTEL, Frank; (NL).
VERDIRAME, Justin Matthew; (US).
NAYFEH, Samir A.; (US)
Données relatives à la priorité :
61/668,934 06.07.2012 US
61/761,560 06.02.2013 US
Titre (EN) A LITHOGRAPHIC APPARATUS
(FR) APPAREIL LITHOGRAPHIQUE
Abrégé : front page image
(EN)A lithographic apparatus has a support structure (MT) configured to support a patterning device (MA), the patterning device serving to pattern a radiation beam (B) according to a desired pattern and having a planar main surface (12) through which the radiation beam passes; an outlet opening (100) configured to direct a flow of a gas onto the patterning device; and an inlet opening (150) configured to extract the gas which has exited the outlet opening, wherein the outlet opening and inlet opening are in a facing surface facing the planar main surface of the patterning device.
(FR)La présente invention concerne un appareil lithographique comportant une structure (MT) de support conçue pour supporter un dispositif de formation de motif (MA), le dispositif de formation de motif servant à former un motif d'un faisceau de rayonnement (B) conformément à un motif souhaité et possédant une surface principale plane (12) traversée par le faisceau de rayonnement; une ouverture de sortie (100) conçue pour diriger un flux de gaz sur le dispositif de formation de motif; et une ouverture d'entrée (150) conçue pour extraire le gaz sorti par l'ouverture de sortie, l'ouverture de sortie et l'ouverture d'entrée se trouvant dans une surface d'exposition faisant face à la surface principale plane du dispositif de formation de motif.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)