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1. (WO2014005011) DIÉLECTRIQUE PERMANENT À NUANCE POSITIVE, CHIMIQUEMENT AMPLIFIÉ, DÉVELOPPABLE PAR VOIE AQUEUSE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/005011    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/048553
Date de publication : 03.01.2014 Date de dépôt international : 28.06.2013
CIB :
G03F 7/00 (2006.01)
Déposants : GEORGIA TECH RESEARCH CORPORATION [US/US]; Georgia Institute of Technology 505 Tenth Street NW Atlanta, Georgia 30332-0415 (US)
Inventeurs : MUELLER, Brennen, Karl; (US).
KOHL, Paul, A.; (US)
Mandataire : MYERS BIGEL SIBLEY & SAJOVEC, P.A.; P.O. Box 37428 Raleigh, North Carolina 27627 (US)
Données relatives à la priorité :
61/666,104 29.06.2012 US
61/787,175 15.03.2013 US
Titre (EN) POSITIVE-TONE, CHEMICALLY AMPLIFIED, AQUEOUS-DEVELOPABLE, PERMANENT DIELECTRIC
(FR) DIÉLECTRIQUE PERMANENT À NUANCE POSITIVE, CHIMIQUEMENT AMPLIFIÉ, DÉVELOPPABLE PAR VOIE AQUEUSE
Abrégé : front page image
(EN)In microelectronic applications, it is often desired to deposit and pattern a permanent dielectric film in order to electrically and mechanically isolate components. Photo-patternable dielectrics are attractive for these uses because of their reduced time and cost requirements. These permanent dielectrics should be high-speed, positive-tone, and aqueous-developable. This type of patternability may be achieved by using a chemically amplified deprotection reaction of tert-butoxycarbonate or tert-butyl acrylate catalyzed by a photo-inducible acid. Provided herein are: a composition for preparing a dielectric film comprising a polymer mixture, wherein the polymer mixture comprises a base polymer comprising a pendent protected organic functionality, a photocatalyst for deprotecting the protected organic functionality and a chemical cross-linker for cross-linking the dielectric film after a photo-patterning has taken place in an aqueous solution; a dielectric film prepared from said composition; and method of preparing a dielectric film.
(FR)L'invention concerne un diélectrique permanent à nuance positive, chimiquement amplifié, développable par voie aqueuse. Dans les applications microélectroniques, il est fréquemment souhaitable de déposer et de dessiner un film diélectrique permanent afin d'isoler électriquement et mécaniquement des composants. Les diélectriques photo-modélisables sont attrayants pour ces usages en raison de leurs faibles contraintes de temps et de coût. Il convient que ces diélectriques permanents soient rapides, à nuance positive et développables par voie aqueuse. Ce type d'aptitude au dessin peut être obtenu en utilisant une réaction d'annulation de la protection amplifiée chimiquement de tert-butoxycarbonate ou d'acrylate de tert-butyle catalysée par un acide photo-inductible. L'invention réalise ici une composition pour préparer un film diélectrique comprenant un mélange de polymères, le mélange de polymères comprenant un polymère de base comprenant une fonctionnalité organique protégée en instance, un photocatalyseur pour annuler la protection de la fonctionnalité organique protégée et un agent de réticulation chimique pour réticuler le film diélectrique après qu'une photo-modélisation ait eu lieu dans une solution aqueuse. L'invention concerne également un film diélectrique préparé à partir de ladite composition et un procédé de préparation d'un film diélectrique.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)