WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2014004828) COMPOSITION DE REVÊTEMENT DE FOND ANTIRÉFLÉCHISSANT DÉVELOPPABLE ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF L'UTILISANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/004828    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/048180
Date de publication : 03.01.2014 Date de dépôt international : 27.06.2013
CIB :
G02B 1/11 (2006.01), B32B 7/02 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01)
Déposants : INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION [US/US]; New Orchard Road Armonk, NY 10504 (US)
Inventeurs : CHEN, Kuang-Jung; (US).
HOLMES, Steven; (US).
HUANG, Wu-Song; (US).
KWONG, Ranee, Wai-Ling; (US).
LIU, Sen; (US)
Mandataire : KALAITZIS, Parashos; IBM Corporation 2070 Route 52 Bldg. 321 / Zip 482 Hopewell Junction, NY 12533 (US)
Données relatives à la priorité :
13/537,177 29.06.2012 US
Titre (EN) DEVELOPABLE BOTTOM ANTIREFLECTIVE COATING COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THEREOF
(FR) COMPOSITION DE REVÊTEMENT DE FOND ANTIRÉFLÉCHISSANT DÉVELOPPABLE ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF L'UTILISANT
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to a developable bottom antireflective coating (BARC) composition and a pattern forming method using the BARC composition. The BARC composition includes a first polymer having a first carboxylic acid moiety, a hydroxy- containing alicyclic moiety, and a first chromophore moiety; a second polymer having a second carboxylic acid moiety, a hydroxy-containing acyclic moiety, and a second chromophore moiety; a crosslinking agent; and a radiation sensitive acid generator. The first and second chromophore moieties each absorb light at a wavelength from 100 nm to 400 nm. In the patterning forming method, a photoresist layer is formed over a BARC layer of the BARC composition. After exposure, unexposed regions of the photoresist layer and the BARC layer are selectively removed by a developer to form a patterned structure in the photoresist layer. The BARC composition and the pattern forming method are especially useful for implanting levels.
(FR)La présente invention concerne une composition de revêtement de fond antiréfléchissant développable (BARC) et un procédé de formation de motif à l'aide de la composition de BARC. La composition de BARC comprend un premier polymère ayant une première fraction acide carboxylique, une fraction alicyclique à teneur en hydroxy et une première fraction chromophore ; un second polymère ayant une seconde fraction acide carboxylique, une fraction acyclique à teneur en hydroxy et une seconde fraction chromophore ; un agent de réticulation ; et un générateur d'acide sensible au rayonnement. Les première et seconde fractions chromophores absorbent chacune de la lumière à une longueur d'onde de 100 nm à 400 nm. Dans le procédé de formation de motif, une couche de photorésist est formée sur une couche de BARC de la composition de BARC. Après l'exposition, des régions non exposées de couche de photorésist et de la couche de BARC sont éliminées de façon sélective par un développeur pour former une structure à motif dans la couche de photorésist. La composition de BARC et le procédé de formation de motif sont particulièrement utiles pour implanter des niveaux.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)