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1. (WO2014004555) MÉTROLOGIE EN CHAMP PROCHE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/004555    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/047682
Date de publication : 03.01.2014 Date de dépôt international : 25.06.2013
CIB :
H01L 21/66 (2006.01)
Déposants : KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; Kla-Tencor Corporation Legal Department, One Technology Drive Milpitas, California 95035 (US)
Inventeurs : SAPIENS, Noam; (IL).
SELIGSON, Joel; (IL).
LEVINSKI, Vladimir; (IL).
KANDEL, Daniel; (IL).
FELER, Yoel; (IL).
BRINGOLTZ, Barak; (IL).
MANASSEN, Amnon; (IL).
BENISTY, Eliav; (IL)
Mandataire : MCANDREWS, Kevin; Kla-Tencor Corp. Legal Department One Technology Drive Milpitas, CA 95035 (US)
Données relatives à la priorité :
61/664,477 26.06.2012 US
Titre (EN) NEAR FIELD METROLOGY
(FR) MÉTROLOGIE EN CHAMP PROCHE
Abrégé : front page image
(EN)Metrology systems and methods are provided herein, which comprise an optical element that is positioned between an objective lens of the system and a target. The optical element is arranged to enhance evanescent modes of radiation reflected by the target. Various configurations are disclosed, the optical element may comprise a solid immersion lens, a combination of Moiré-elements and solid immersion optics, dielectric-metal-dielectric stacks of different designs, and resonating elements to amplify the evanescent modes of illuminating radiation. The metrology systems and methods are configurable to various metrology types, including imaging and scatterometry methods.
(FR)La présente invention porte sur des systèmes et sur des procédés de métrologie qui comportent un élément optique, celui-ci étant positionné entre un objectif du système et une cible. L'élément optique est agencé pour améliorer des modes évanescents d'un rayonnement réfléchi par la cible. La présente invention porte également sur différentes configurations, l'élément optique pouvant comprendre une lentille d'immersion solide, une combinaison d'éléments de Moiré et d'optiques d'immersion solide, des empilements diélectrique-métal-diélectrique de différentes conceptions et des éléments résonants pour amplifier les modes évanescents d'un rayonnement d'éclairage. Les systèmes et les procédés de métrologie peuvent être configurés pour différents types de métrologie, y compris des procédés d'imagerie et de diffusométrie.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)