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1. (WO2014004000) ÉVALUATION DE FORMATIONS PRODUCTIVE À FAIBLE RÉSISTIVITÉ, FAIBLE CONTRASTE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/004000    N° de la demande internationale :    PCT/US2013/044251
Date de publication : 03.01.2014 Date de dépôt international : 05.06.2013
CIB :
E21B 49/08 (2006.01), G01V 3/32 (2006.01), G01V 5/04 (2006.01)
Déposants : SCHLUMBERGER CANADA LIMITED [CA/CA]; 525-3rd Avenue Southwest Calgary, Alberta T2P-0G4 (CA) (CA only).
SERVICES PETROLIERS SCHLUMBERGER [FR/FR]; 42 rue Saint Dominique 75007 Paris (FR) (FR only).
SCHLUMBERGER HOLDINGS LIMITED [GB/GB]; P.O. Box 71, Craigmuir Chambers, Road Town Tortola, Virgin Islands, British, 1110 (VG) (GB, JP, NL only).
SCHLUMBERGER TECHNOLOGY B.V. [NL/NL]; Parkstraat 83-89m NL-2514 JG The Hague (NL) (AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BJ, BN, BR, BW, BY, BZ, CF, CG, CH, CI, CL, CM, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GA, GD, GE, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IS, IT, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, NE, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, ST, SV, SZ, TD, TG, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, ZA, ZM, ZW only).
PRAD RESEARCH AND DEVELOPMENT LIMITED [GB/GB]; P.O. Box 71, Craigmuir Chambers, Road Town Tortola, Virgin Island, British, 1110 (VG) (AE, AO, BF, BH, BJ, CF, CG, CI, CM, CN, GA, GH, GN, GQ, GW, IN, LY, MA, ML, MR, MZ, NA, NE, NG, PH, SD, SN, SY, TD, TG, VN only).
SCHLUMBERGER TECHNOLOGY CORPORATION [US/US]; 300 Schlumberger Drive Sugar Land, Texas 77478 (US) (US only)
Inventeurs : ROY, Indranil; (US).
LEWIS, Richard; (US).
MARYA, Manuel, P.; (US).
GANGULY, Partha; (US)
Mandataire : LIU, Kenneth; 10001 Richmond Avenue IP Administration Center of Excellence Room 4720 Houston, Texas 77042 (US)
Données relatives à la priorité :
61/664,238 26.06.2012 US
13/796,727 12.03.2013 US
Titre (EN) EVALUATION OF LOW RESISTIVITY LOW CONTRAST PRODUCTIVE FORMATIONS
(FR) ÉVALUATION DE FORMATIONS PRODUCTIVE À FAIBLE RÉSISTIVITÉ, FAIBLE CONTRASTE
Abrégé : front page image
(EN)A method for identifying low resistivity low contrast high temperature high pressure productive subsurface formations rich in acid gases penetrated by a wellbore includes obtaining dielectric permittivity measurements of selected formations adjacent at least part of the wellbore. Nuclear magnetic resonance relaxometry measurements are obtained for the selected formations, the relaxometry measurements being calibrated to identify relaxation times corresponding to acid gases in high humidity at elevated pressure and temperature. Zones are identified for withdrawing formation fluid samples based on the dielectric permittivity and relaxometry measurements.
(FR)La présente invention concerne un procédé d'identification de formations souterraines productives à faible résistivité, faible contraste, température élevée, pression élevée, riches en gaz acides, traversées par un trou de forage, faisant appel à l'obtention de mesures de permittivité diélectrique de formations choisies adjacentes au moins en partie au trou de forage. Selon l'invention, des mesures de relaxométrie par résonance magnétique nucléaire sont obtenues pour les formations choisies, les mesures de relaxométrie étant calibrées pour identifier des temps de relaxation correspondant aux gaz acides dans des conditions d'humidité élevée, de température et pression élevées. Des zones sont identifiées dans le but de prélever des échantillons de fluide de formation sur la base des mesures de permittivité diélectrique et de relaxométrie.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)