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1. (WO2014003211) SUBSTRAT DE POLYIMIDE TRANSPARENT ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/003211    N° de la demande internationale :    PCT/KR2012/005003
Date de publication : 03.01.2014 Date de dépôt international : 25.06.2012
CIB :
C08J 7/04 (2006.01), C08J 5/18 (2006.01), B32B 27/06 (2006.01), C08G 73/10 (2006.01), G09F 9/00 (2006.01)
Déposants : KOLON INDUSTRIES, INC. [KR/KR]; 1-23 Byeoryang-dong, Gwacheon-si Gyeongg-do 427-709 (KR) (Tous Sauf US).
WOO, Hack Young [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
JUNG, Hak Gee [KR/KR]; (KR) (US Seulement).
PARK, Sang Yoon [KR/KR]; (KR) (US Seulement)
Inventeurs : WOO, Hack Young; (KR).
JUNG, Hak Gee; (KR).
PARK, Sang Yoon; (KR)
Mandataire : KONG, Min Ho; 10th floor, BYC Building, 648-1 Yeoksam-dong, Gangnam-gu Seoul 135-080 (KR)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) TRANSPARENT POLYIMIDE SUBSTRATE AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
(FR) SUBSTRAT DE POLYIMIDE TRANSPARENT ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed herein is a transparent polyimide substrate, including: a transparent polyimide film; and a silicon oxide layer which is formed on one side or both sides of the transparent polyimide film and which includes a silicon oxide.
(FR)L'invention concerne un substrat de polyimide transparent, comprenant : un film de polyimide transparent; et une couche d'oxyde de silicium qui est formée sur un côté ou sur les deux côtés du film de polyimide transparent et qui comprend un oxyde de silicium.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)