WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2014002842) DISPOSITIF DE FORMATION D'UN FILM MINCE ORGANIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/002842    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/066804
Date de publication : 03.01.2014 Date de dépôt international : 19.06.2013
CIB :
C23C 14/12 (2006.01), C23C 14/58 (2006.01)
Déposants : ULVAC, INC. [JP/JP]; 2500, Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543 (JP)
Inventeurs : SAITOU, Kazuhiko; (JP).
IIJIMA, Masayuki; (JP).
HIRONO, Takayoshi; (JP).
NAKAMORI, Kenji; (JP)
Mandataire : ISHIJIMA, Shigeo; Toranomonkougyou Bldg., 3F, 1-2-18, Toranomon, Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-147691 29.06.2012 JP
Titre (EN) ORGANIC THIN FILM FORMATION DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE FORMATION D'UN FILM MINCE ORGANIQUE
(JA) 有機薄膜形成装置
Abrégé : front page image
(EN)The present invention forms an organic thin film at a high film formation rate by means of the vapor of an organic compound generated by heating. A film formation chamber (43) is disposed in the interior of a buffer chamber (42), the side surface of one section of a center roller (17) is inserted into the film formation chamber (43) from a film formation chamber opening (54), and a base material film (23) is put into travel motion while being brought into close contact with the side section of the aforementioned section. Vapor from a vapor generation device (26) connected to the film formation chamber (43) is carried by means of a carrier gas, the center roller (17) is cooled by means of a cooling device (30), the base material film (23) is cooled to a temperature that is equal to or lower than the condensation temperature of the vapor, and an organic starting material layer (35) is formed on the surface of the base material film (23) by means of the vapor released into the film formation chamber (43) and is cured by rotating the center roller (17) and by means of the energy rays emitted in a curing chamber (44). The buffer chamber (42) is evacuated to a low pressure so that the vapor and the carrier gas that flowed out of the film formation chamber opening (54) does not flow into the curing chamber (44) or a roll chamber (41).
(FR)La présente invention forme un film mince organique à une vitesse de formation de film élevée au moyen de la vapeur d'un composé organique générée par chauffage. Une chambre de formation de film (43) est disposée à l'intérieur d'une chambre tampon (42), la surface latérale d'une section d'un cylindre central (17) est introduite dans la chambre de formation de film (43) à partir d'une ouverture (54) de la chambre de formation de film, et un film de matière de base (23) est mis en mouvement de déplacement tout en étant amené en contact étroit avec la section latérale de la section mentionnée ci-dessus. De la vapeur provenant d'un dispositif de génération de vapeur (26) relié à la chambre de formation de film (43) est portée au moyen d'un gaz porteur, le rouleau central (17) est refroidi au moyen d'un dispositif de refroidissement (30), le film de matière de base (23) est refroidi à une température qui est inférieure ou égale à la température de condensation de la vapeur, et une couche de matière de départ organique (35) est formée sur la surface du film de matière de base (23) au moyen de la vapeur libérée dans la chambre de formation de film (43) et est durcie par la rotation du rouleau central (17) et au moyen des rayons d'énergie émis dans une chambre de durcissement (44). La chambre tampon (42) est mise sous vide à une basse pression de telle sorte que la vapeur et le gaz porteur s'étant écoulés hors de l'ouverture de la chambre de formation de fibre (54) ne s'écoulent pas dans la chambre de durcissement (44) ou dans une chambre de laminage (41).
(JA) 本発明は、加熱により生成した有機化合物の蒸気によって高成膜レートで有機薄膜を形成する。 成膜室43をバッファー室42の内部に配置し、中央ローラ17の一部側面を成膜室開口54から成膜室43内に挿入し、その部分の側面に密着させながら、基材フィルム23を走行させる。成膜室43に接続された蒸気生成装置26から蒸気をキャリアガスによって運搬し、冷却装置30によって中央ローラ17を冷却し、基材フィルム23を蒸気の凝集温度以下の温度に冷却し、成膜室43内に放出された蒸気によって基材フィルム23の表面に有機原料層35を形成し、中央ローラ17を回転させて硬化室44に於いてエネルギー線を照射し、硬化させる。バッファー室42は低圧力に真空排気して、成膜室開口54から流出したキャリアガスと蒸気が硬化室44やロール室41に流入しないようにされている。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)