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1. (WO2014002773) DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/002773    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/066261
Date de publication : 03.01.2014 Date de dépôt international : 12.06.2013
CIB :
C23C 14/54 (2006.01), C23C 14/12 (2006.01)
Déposants : ULVAC, INC. [JP/JP]; 2500, Hagisono, Chigasaki-shi, Kanagawa 2538543 (JP)
Inventeurs : SAITOU, Kazuhiko; (JP).
IIJIMA, Masayuki; (JP).
HIRONO, Takayoshi; (JP).
NAKAMORI, Kenji; (JP)
Mandataire : ABE, Hideki; Toranomonkougyou Bldg., 3F, 1-2-18, Toranomon, Minato-ku, Tokyo 1050001 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-147802 29.06.2012 JP
Titre (EN) FILM FORMATION DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE FORMATION DE FILM
(JA) 成膜装置
Abrégé : front page image
(EN)The present invention provides a technology for forming an organic compound film having an even film thickness on a film at a high film-formation speed while transporting the film within a vacuum tank. A film (10) which is reeled out from an original roll (41) is transported while being in contact with a center roller (3) in a vacuum tank (2), and an organic compound film is formed on the film (10). The present invention is provided with: a vapor emission device (8) having a vapor emission unit (82) which is disposed within a film formation chamber (6) provided within the vacuum tank (2) and which emits and blows the vapor of an organic compound monomer onto the film (10) on the center roller (3); and an energy ray emission device (9) which irradiates the organic compound monomer layer formed on the center roller (3) with energy rays to cure the organic compound monomer layer. The vapor emission device (8) and the film formation chamber (6) are respectively connected to a fifth and third vacuum exhaust device (80, 60) which can be independently controlled. The pressure within the vapor emission device (8) is set to be greater than the pressure within the film formation chamber (6), and the difference between the pressure within the vapor emission device (8) and the pressure within the film formation chamber (6) is set to be fixed.
(FR)La présente invention concerne une technologie permettant de former un film à composé organique présentant une épaisseur régulière sur un film à une vitesse de formation de film élevée tout en transportant le film dans un réservoir à vide. Un film (10) qui est déroulé d'un rouleau original (41) est transporté tout en étant en contact avec un rouleau central (3) dans un réservoir à vide (2), et un film à composé organique est formé sur le film (10). La présente invention est pourvue : d'un dispositif d'émission de vapeur (8) présentant une unité d'émission de vapeur (82) qui est disposée dans une chambre de formation de film (6) située dans le réservoir sous vide (2) et qui émet et souffle la vapeur d'un monomère à composé organique sur le film (10) sur le rouleau central (3) ; et d'un dispositif d'émission de rayon énergétique (9) qui irradie la couche monomère à composé organique formée sur le rouleau central (3) au moyen de rayons énergétiques pour durcir la couche monomère à composé organique. Le dispositif d'émission de vapeur (8) et la chambre de formation de film (6) sont raccordés respectivement à un cinquième et à un troisième dispositif d'évacuation de vide (80, 60) qui peuvent être commandés de manière indépendante. La pression dans le dispositif d'émission de vapeur (8) est réglée pour être supérieure à la pression dans la chambre de formation de film (6), et la différence entre la pression dans le dispositif d'émission de vapeur (8) et la pression dans la chambre de formation de film (6) est réglée pour être fixe.
(JA) 本発明は、真空槽内においてフィルムを搬送しながらフィルム上に均一な膜厚の有機化合物膜を高い成膜速度で形成する技術を提供するものである。 真空槽2内で、原反ロール41から繰り出されたフィルム10を中央ローラ3と接触しつつ搬送し、フィルム10上に有機化合物膜を形成する。真空槽2内に設けられた成膜室6内に配置され、有機化合物モノマーの蒸気を放出して中央ローラ3上のフィルム10に吹き付ける蒸気放出部82を有する蒸気放出装置8と、中央ローラ3上に形成された有機化合物モノマー層に対してエネルギー線を照射して有機化合物モノマー層を硬化させるエネルギー線射出装置9とを有する。蒸気放出装置8及び成膜室6が、独立して制御可能な第5及び第3真空排気装置80、60にそれぞれ接続され、蒸気放出装置8内の圧力が成膜室6内の圧力より大きく、かつ、蒸気放出装置8内の圧力と成膜室6内の圧力との差が一定になるようにする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)