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1. (WO2014002340) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE CYCLOALCANONE OXIME
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/002340    N° de la demande internationale :    PCT/JP2013/002168
Date de publication : 03.01.2014 Date de dépôt international : 29.03.2013
CIB :
C07C 249/06 (2006.01), C07C 251/44 (2006.01)
Déposants : TORAY INDUSTRIES, INC. [JP/JP]; 1-1, Nihonbashi-Muromachi 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1038666 (JP)
Inventeurs : TAKAHASHI, Toru; (JP).
NISHIKAWA, Yasuyoshi; (JP).
MORITA, Shoji; (JP)
Mandataire : TOKKYO GYOMUHOJIN MEISEI INTERNATIONAL PATENT FIRM; 12-17, Sakae 1-chome, Naka-ku, Nagoya-shi, Aichi 4600008 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-144272 27.06.2012 JP
Titre (EN) METHOD FOR PRODUCING CYCLOALKANONE OXIME
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE CYCLOALCANONE OXIME
(JA) シクロアルカノンオキシムの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)[Problem] To provide a method for producing cycloalkanone oxime which uses, as the light source in a photo-nitrosation method, a light-emitting diode as a next-generation light source, instead of a discharge lamp incorporating mercury, sodium, or the like. [Solution] A method for producing cycloalkanone oxime by photochemically reacting a cycloalkane and a photo-nitrosating agent in a liquid by photoirradiation is characterized by using a light source for which the light-emission energy distribution for the light-source wavelength thereof is as follows: the wavelength expressing the maximum value of light-emission energy is within the range of 550-700nm; and the wavelength range for outputting energy of at least 5% of peak intensity is 150nm or less. This method for producing cycloalkanone oxime is further characterized in that the ratio (ηE/V) of energy (ηE) emitted as light from the power (E) inputted into the light source to the reaction volume (V) for photoirradiation is 5.5w/L or higher.
(FR)L'invention a pour but de proposer un procédé de fabrication d'une cycloalcanone oxime qui utilise, comme source de lumière dans un procédé de photo-nitrosation, une diode électroluminescente comme source de lumière de prochaine génération, au lieu d'une lampe à décharge incorporant du mercure, du sodium ou similaires. A cet effet, selon l'invention, un procédé de fabrication d'une cycloalcanone oxime par réaction photochimique d'un cycloalcane et d'un agent de photo-nitrosation dans un liquide par photo-irradiation est caractérisé par l'utilisation d'une source de lumière pour laquelle la distribution d'énergie d'émission de lumière pour sa longueur d'onde de source de lumière est comme suit : la longueur d'onde exprimant la valeur maximale de l'énergie d'émission de lumière est à l'intérieur de la plage de 550-700 nm; et la plage de longueur d'onde pour l'énergie de sortie d'au moins 5 % de l'intensité de pic est 150 mn ou moins. Ce procédé de fabrication d'une cycloalcanone oxime est de plus caractérisé en ce que le rapport (ηE/V) de l'énergie (ηE) émise sous la forme de lumière à partir de la puissance (E) introduite dans la source de lumière au volume réactionnel (V) pour une photo-irradiation est 5,5 w/L ou plus.
(JA)【課題】光ニトロソ化法において、光源としては、水銀やナトリウム等を封入した放電灯ランプに変わる次世代の光源として、発光ダイオードを用いたシクロアルカノンオキシムの製造方法を提供する。 【解決手段】シクロアルカンと光ニトロソ化剤とを、光照射により液中で光化学反応させるシクロアルカノンオキシムの製造方法であって、該光源の波長に対する発光エネルギー分布の中で、発光エネルギーの最大値を示す波長が550nmから700nmの範囲であり、かつピーク強度の5%強度以上のエネルギーを出力する波長範囲が150nm以下である光源を用い、光源に投入された電力Eのうち光として照射されたエネルギーηEと、光照射する反応容量Vの比ηE/Vが5.5w/L以上であることを特徴とする、シクロアルカノンオキシムの製造方法。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)