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1. (WO2014002312) DISPOSITIF DE DESSIN DE MOTIF, PROCÉDÉ DE DESSIN DE MOTIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/002312    N° de la demande internationale :    PCT/JP2012/082758
Date de publication : 03.01.2014 Date de dépôt international : 18.12.2012
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD. [JP/JP]; Tenjinkita-machi 1-1, Teranouchi-agaru 4-chome, Horikawa-dori, Kamigyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6028585 (JP)
Inventeurs : KOKUBO, Masahiko; (JP).
UMAKOSHI, Shoichi; (JP).
KISHIWAKI, Daisuke; (JP).
OMORI, Kohei; (JP)
Mandataire : FURIKADO, Shoichi; 4F TAKAGI BLDG., 1-19, Nishitenma 5-chome, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300047 (JP)
Données relatives à la priorité :
2012-143226 26.06.2012 JP
Titre (EN) PATTERN DRAWING DEVICE, PATTERN DRAWING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE DESSIN DE MOTIF, PROCÉDÉ DE DESSIN DE MOTIF
(JA) パターン描画装置、パターン描画方法
Abrégé : front page image
(EN)The uniformity of the illumination distribution of irradiation light (Re) on a substrate (S) may be improved for a pattern drawing device (1) wherein light incident on a spatial modulator (80) through a rod integrator (70) is modulated by a spatial light modulator (80) and irradiated onto the substrate (S). Provided is a light source array (60) having a plurality of light-emitting elements (601) which emits light with the brightness in accordance with the magnitude of a driving current (Id). The rod integrator (70) equalizes the illumination distribution for the light entering from the light source array (60). Also provided is an irradiation control unit (130) which individually controls the magnitude of the driving signal (Id) for each light-emitting element (601). Therefore, by individually controlling the brightness of the light-emitting element (601) the illumination distribution of the light incident on the subsequent rod integrator (70) can be suitably adjusted. As a result, it is possible to improve the uniformity of the illumination distribution of the irradiation light on an irradiation region (Re) using an optical head (6).
(FR)Selon la présente invention, l'uniformité de la distribution d'éclairage d'une lumière d'irradiation (Re) sur un substrat (S) peut être améliorée pour un dispositif de dessin de motif (1) dans lequel une lumière incidente sur un modulateur spatial (80) à travers un intégrateur en tige (70) est modulée par un modulateur de lumière spatial (80) et irradiée sur le substrat (S). La présente invention porte sur un réseau de sources lumineuses (60) ayant une pluralité d'éléments d'émission de lumière (601) qui émettent une lumière ayant la brillance conformément à l'amplitude d'un courant de commande (Id). L'intégrateur en tige (70) égalise la distribution d'éclairage pour la lumière entrant depuis le réseau de sources lumineuses (60). La présente invention porte également sur une unité de commande d'irradiation (130) qui commande de manière individuelle l'amplitude du signal de commande (Id) pour chaque élément d'émission de lumière (601). Ainsi, par la commande de manière individuelle de la brillance de l'élément d'émission de lumière (601), la distribution d'éclairage de la lumière incidente sur l'intégrateur en tige subséquent (70) peut être réglée de manière appropriée. Par suite, il est possible d'améliorer l'uniformité de la distribution d'éclairage de la lumière d'irradiation sur une région d'irradiation (Re) à l'aide d'une tête optique (6).
(JA) ロッドインテグレータ70を介して空間光変調器80に入射させた光を空間光変調器80により変調して基板Sに照射するパターン描画装置1において、基板Sへの照射光Reの照度分布の均一性を向上可能とする。駆動電流Idの大きさに応じた輝度で発光する発光素子601を複数有する光源アレイ60が設けられており、ロッドインテグレータ70は光源アレイ60から入射してきた光に対して、照度分布の均一化を行う。そして、駆動信号Idの大きさを発光素子601毎に個別に制御する照射制御部130が設けられている。そのため、発光素子601毎に輝度を個別に制御して、以降のロッドインテグレータ70に入射する光の照度分布を適宜調整することができる。その結果、光学ヘッド6による、照射領域Reへの照射光の照度分布の均一性を向上させることが可能となっている。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)