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1. (WO2014001134) FILTRE PLISSÉ
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/001134    N° de la demande internationale :    PCT/EP2013/062559
Date de publication : 03.01.2014 Date de dépôt international : 18.06.2013
CIB :
B01D 29/15 (2006.01), B01D 29/21 (2006.01)
Déposants : PUROLATOR ADVANCED FILTRATION SA [BE/BE]; Rue de Cornémont 9-11 B-4141 Sprimont (BE)
Inventeurs : VANDENDIJK, Stefan; (BE).
NGUYEN, Marie; (BE)
Mandataire : PRONOVEM-OFFICE VAN MALDEREN; Ave. Josse Goffin 158 B-1082 Brussels (BE)
Données relatives à la priorité :
12174181.3 28.06.2012 EP
Titre (EN) PLEATED FILTER
(FR) FILTRE PLISSÉ
Abrégé : front page image
(EN)The invention discloses an elongated filter pack for use in a filter candle for the filtration of non-newtonian fluid and/or molten polymers. The elongated filter pack comprises a pleated filter medium wherein the pleat density of the filter medium on the inner circumferential circle in the elongated filter pack is higher than 70% over a length of at least 20 mm of the elongated filter pack. The pleat density on the inner circumferential circle of the pleated filter medium in the elongated filter pack is less than75% over at least 50% of the length of the elongated filter pack. The pleat density on the inner circumferential circle of the elongated filter pack is defined as the thickness of the filter pack multiplied by the number of pleats, wherein one pleat is comprising two legs with a fold in between the two legs of the pleated filter medium,and multiplied with two, divided by the circumference of the circle that is enclosing the cross section perpendicular to its longitudinal axis of the pleated filter medium in the elongated filter pack and multiplied by 100, the value of the pleat density is obtained expressed as a percentage.
(FR)L'invention concerne une garniture de filtre allongée pour utilisation dans une bougie filtrante pour la filtration d'un fluide non newtonien et/ou de polymères fondus. La garniture de filtre allongée comprend un support de filtre plissé dans lequel la densité de plissage du support de filtre sur le cercle circonférentiel interne dans la garniture de filtre allongée est supérieure à 70 % à une longueur d'au moins 20 mm de la garniture de filtre allongée. La densité de plissage sur le cercle circonférentiel interne du support de filtre plissé dans la garniture de filtre allongée est inférieure à 75 % par rapport à au moins 50 % de la longueur de la garniture de filtre allongée. La densité de plissage sur le cercle circonférentiel interne de la garniture de filtre allongée est définie comme étant l'épaisseur de la garniture de filtre multipliée par le nombre de plis, un pli comprenant deux bras avec un pli entre les deux bras du support de filtre plissé, et multipliée par deux, divisée par la circonférence du cercle qui entoure la section transversale perpendiculaire à son axe longitudinal du support de filtre plissé dans la garniture de filtre allongée et multipliée par 100, la valeur de la densité de plissage étant obtenue exprimée en pourcentage.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)