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1. (WO2014000998) SOURCE DE PHOTONS, APPAREIL DE MÉTROLOGIE, SYSTÈME LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2014/000998    N° de la demande internationale :    PCT/EP2013/060664
Date de publication : 03.01.2014 Date de dépôt international : 23.05.2013
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), H05G 2/00 (2006.01), G01N 21/956 (2006.01), H01J 65/04 (2006.01), H01J 61/02 (2006.01), H01J 61/54 (2006.01), H05B 41/38 (2006.01)
Déposants : ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 NL-5500 AH Veldhoven (NL)
Inventeurs : PELLEMANS, Henricus; (NL).
VAN DER ZOUW, Gerbrand; (NL).
SMEETS, Ralph; (NL).
DE WIT, Johannes; (NL).
ANTSIFEROV, Pavel; (RU).
KRIVTSUN, Vladimir; (RU)
Mandataire : BROEKEN, Petrus; De Run 6501 NL-5504 DR Veldhoven (NL)
Données relatives à la priorité :
61/658,654 12.06.2012 US
Titre (EN) PHOTON SOURCE, METROLOGY APPARATUS, LITHOGRAPHIC SYSTEM AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) SOURCE DE PHOTONS, APPAREIL DE MÉTROLOGIE, SYSTÈME LITHOGRAPHIQUE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Abrégé : front page image
(EN)A laser driven light source comprises laser (52) and focusing optics (54). These produce a beam of radiation focused on a plasma forming zone within a container (40) containing a gas (e.g., Xe). Collection optics (44) collects photons emitted by a plasma (42) maintained by the laser radiation to form a beam of output radiation (46). The plasma has an elongate form (L > d) and the collecting optics is configured to collect photons emerging in the longitudinal direction from the plasma. The brightness of the plasma is increased compared with sources which collect radiation emerging transversely from the plasma. A metrology apparatus using the light source can achieve greater accuracy and/or throughput as a result of the increased brightness. Back reflectors may be provided. Microwave radiation may be used instead of laser radiation to form the plasma.
(FR)Selon la présente invention, une source lumineuse commandée par laser comprend un laser (52) et des optiques de focalisation (54). Ceux-ci produisent un faisceau de rayonnement focalisé sur une zone formant plasma à l'intérieur d'un récipient (40) contenant un gaz (par exemple, Xe). Des optiques de collecte (44) collectent des photons émis par un plasma (42) maintenu par le rayonnement laser pour former un faisceau de rayonnement de sortie (46). Le plasma a une forme allongée (L>D) et les optiques de collecte sont configurées pour collecter des photons émergeant dans la direction longitudinale du plasma. La brillance du plasma est accrue en comparaison avec des sources qui collectent un rayonnement émergeant de manière transversale du plasma. Un appareil de métrologie utilisant la source lumineuse peut atteindre une précision et/ou un débit supérieurs par suite de la brillance accrue. La présente invention porte également sur des réflecteurs arrières. Un rayonnement micro-onde peut être utilisé à la place d'un rayonnement laser pour former le plasma.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KM, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)